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溅射功率对Zr-B-Nb-N纳米复合膜结构和机械性能的影响被引量：2: 2016年; 为研究不同ZrB_2溅射功率对Zr-B-Nb-N纳米复合膜结构和机械性能的影响,利用磁控多靶共溅射的方法,在不同ZrB_2溅射功率下制备基底温度分别为室温和100℃的Zr-B-Nb-N薄膜,并应用XP-2表面轮廓仪测得镀层厚度和残余应力,利用X线衍射(XRD)测得复合膜的结构和晶向,利用电子显微镜(TEM)观察断面形貌,采用纳米压痕仪对薄膜进行划痕实验并测量薄膜的硬度、弹性模量和膜基结合力.实验结果表明:ZrB_2溅射功率为100 W时,复合膜具有ZrB_2(001)和ZrB_2(002)择优取向和非晶态Nb N包覆柱状晶ZrB_2的结构,这种结构的形成使复合膜的硬度达到最高的31.3GPa,相应的弹性模量为380.2 GPa.通过基底加温处理后,样品硬度无明显变化,说明复合膜的硬度具有良好的热稳定性.研究结果说明ZrB_2功率的改变对薄膜的微观结构和机械性能具有明显影响.; 李春董磊余建刚余建刚孙秀华潘玉鹏

负偏压对电弧离子镀复合TiAlN薄膜的影响被引量：8: 2012年; 采用电弧离子镀技术,以W18Cr4V高速钢为基体,调整基体负偏压,制得多个复合TiAlN薄膜试样,研究了基体负偏压对薄膜微观组织形貌、物相组成、晶格位向、硬度、厚度和沉积速率的影响。结果表明,过高或过低的负偏压会使得膜层表面不平整,显微硬度下降。当负偏压为200 V时,膜层的沉积速率最大;负偏压为150 V时,有利于薄膜(111)晶面的择优取向生长,且TiAlN膜的硬度最高。; 黄美东许世鹏刘野薛利潘玉鹏范喜迎; 关键词：电弧离子镀 TIALN薄膜

负偏压对多弧离子镀TiN薄膜结构和沉积速率的影响被引量：1: 2013年; 采用多弧离子镀设备在抛光后的高速钢表面沉积TiN薄膜,在其他参数不变的情况下,着重考察偏压对薄膜的沉积速率的影响。实验结果表明,随着负偏压的增加,沉积速率不断增加,但在负偏压达到一定值后,沉积速率又随偏压增大而减小。; 潘玉鹏黄美东薛利刘野许世鹏; 关键词：多弧离子镀 TIN薄膜偏压沉积速率

脉冲偏压对多弧离子沉积TiAlN薄膜微观结构的影响研究: 采用多弧离子镀的方法在高速钢基底上沉积氮化钛铝硬质薄膜。本地真空为3*10Pa,实验采用高纯钛靶和铝靶镀膜,并且氩气作为辅助气体0.1Pa,氮气为反应气体0.4Pa,镀膜气压一共为0.5Pa。实验前进行辉光清洗15分钟,...; 薛利黄美东潘玉鹏范喜迎李云珂; 文献传递

脉冲偏压对多弧离子镀TiAlN薄膜的成分和结构的影响研究被引量：7: 2015年; 采用多弧离子镀在高速钢基底上沉积Ti Al N薄膜。利用扫描电镜(SEM)观测薄膜的表面形貌;用EDS分析薄膜表面的成分;用表面轮廓仪测试薄膜的厚度并结合沉积时间计算出沉积速率;用维氏硬度仪测量薄膜的硬度;用XRD表征薄膜的微观结构。结果表明,随着偏压峰值的增大,表面大颗粒逐渐减少,致密性逐渐变好,薄膜硬度也随之增加。沉积参数对薄膜成分有影响,偏压峰值对薄膜中Al含量有较明显的影响,而占空比则主要影响Ti含量。本文对实验结果进行了较详细的讨论和分析。; 王萌萌黄美东潘玉鹏李云珂; 关键词：多弧离子镀 TI AL 脉冲偏压占空比

氮气流量对电弧离子镀CrN薄膜组织结构和性能的影响被引量：4: 2013年; 利用电弧离子镀技术在高速钢基体上于不同氮气流量条件下制备CrN薄膜样品,通过纳米压痕仪、XP-2台阶仪、SEM和XRD测试分析了薄膜的硬度、弹性模量、厚度、表面形貌和物相结构。实验结果表明,氮气流量对CrN薄膜的组织结构和力学性能都具有较为明显的影响。; 范喜迎黄美东李洪玉刘野许世鹏薛利潘玉鹏; 关键词：电弧离子镀 CRN薄膜

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潘玉鹏