江海峰
- 作品数：1 被引量：2H指数：1
- 供职机构：广西大学更多>>
- 发文基金：广西大学科学技术研究重点基金国家自然科学基金广西壮族自治区科学研究与技术开发计划更多>>
- 相关领域：一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 用正电子湮没技术研究Cr和Nb对TiAl合金中缺陷和d-d电子相互作用的影响被引量：2
- 2009年
- 测量Al,Si,Ti,Cr,Nb等纯元素以及Ti50Al50,Ti50Al48Cr2,Ti50Al48Nb2合金的符合正电子湮没辐射多普勒展宽谱和寿命谱,获得金属及合金中d电子和缺陷的信息。结果表明,二元TiAl合金的电子密度和3d电子的信号较低,晶界缺陷的开空间较大。在TiAl合金中加入Cr或Nb,合金中的d-d电子作用增强,基体和晶界处的电子密度均增加。Ti50Al48Cr2合金的多普勒展宽谱的d电子信号高于Ti50Al48Nb2合金。讨论了Cr和Nb对TiAl合金中缺陷和d-d电子相互作用的影响。
- 祝莹莹邓文孙顺平江海峰黄宇阳曹名洲熊良钺
- 关键词：TIAL合金正电子湮没技术
