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贾阳

作品数:4 被引量:2H指数:1
供职机构:中国工程物理研究院更多>>
发文基金:国防基础科研计划更多>>
相关领域:机械工程金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇机械工程
  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 4篇磁流变
  • 3篇抛光
  • 3篇磁流变抛光
  • 1篇谱密度
  • 1篇去除函数
  • 1篇自适
  • 1篇自适应
  • 1篇滤波
  • 1篇聚类
  • 1篇基于梯度
  • 1篇功率谱
  • 1篇功率谱密度
  • 1篇光斑

机构

  • 4篇中国工程物理...

作者

  • 4篇贾阳
  • 3篇吉方
  • 3篇黄文
  • 3篇张云飞

传媒

  • 2篇强激光与粒子...
  • 1篇第16届全国...

年份

  • 1篇2016
  • 3篇2015
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
磁流变抛光中频误差工艺控制算法与策略
磁流变抛光技术具有高效率、高精度、高表面质量等优点,是强光光学零件比较理想的加工方式。但由于磁流变抛光的去除函数束径比工件尺寸小很多,在有效去除低频误差的同时,易产生中高频误差,将使激光光束产生非线性自聚焦效应和表面损伤...
贾阳吉方张云飞黄文
关键词:磁流变去除函数
文献传递
基于梯度聚类离散思想的磁流变抛光自适应轨迹被引量:1
2015年
针对磁流变抛光过程中抛光轨迹会引入迭代误差的问题,设计了步长和行距随光学表面梯度自适应变化的光栅线抛光轨迹。首先根据光学元件的表面误差分布,利用标准五点法获得面形各点的梯度值,再基于聚类离散思想将所有面形点根据梯度值大小进行了归类,从而得到轨迹步长和行距随面形误差变化的自适应轨迹。在自研的磁流变加工机床上进行了实验研究,将一块直径50mm的微晶玻璃,从峰谷值为65nm、均方根值为12nm收敛到峰谷值为21nm、均方根值为2.5nm,并且在加工后的表面功率谱密度曲线上没有出现明显的尖峰误差。实验结果表明,这种自适应轨迹能有效抑制中高频误差。
贾阳吉方张云飞黄文
关键词:磁流变抛光
磁流变加工驻留时间对中频误差的影响被引量:2
2015年
针对磁流变抛光过程中的中频误差的控制,进行了驻留时间与中频误差影响关系的研究。对基于矩阵法得出的驻留时间进行分析,驻留时间矩阵沿抛光头的进给方向的起伏波动性,反映在抛光过程中速度的不连续性,会引入一定的中频误差。提出通过滤波算法使驻留时间沿抛光轮进给方向更加平滑,即相邻两点的速度更加接近,抛光轮只需要很小的加速度和很小的时间内即可完成整个加速过程,从而降低这种速度的波动性带来的误差。通过计算机仿真和实验验证,给驻留时间一个很小的扰动,会使残差的功率谱密度(PSD)曲线发散,而滤波后的驻留时间算法在"不失真"的情况下,在一定程度上抑制了中频误差。
贾阳吉方张云飞黄文
关键词:磁流变功率谱密度滤波
基于磁流变抛光的中频误差控制工艺算法与策略
磁流变抛光技术被誉为是光学制造界的革命性技术,能快速实现超高精度面形(数十纳米以下)、超光滑表面质量(1纳米以下)且近无亚表面缺陷,可使光学企业的制造水平与生产效率有突破性的提升。但是磁流变抛光在快速去除光学表面低频误差...
贾阳
关键词:磁流变抛光
文献传递
共1页<1>
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