宗广霞
- 作品数：2 被引量：1H指数：1
- 供职机构：中国科学院金属研究所金属腐蚀与防护国家重点实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- 电弧法制备的Cr纳米粉与Ni共沉积行为的电化学研究
- 2011年
- 采用电弧法分别在高低两种H_2分压下制备了Cr纳米粉(标记为Cr_Ⅰ和Cr_Ⅱ).在电解液中浸泡过的两种Cr纳米粉的XPS分析结果表明,Cr_Ⅱ纳米粉表面在电解液中形成的Cr_2O_3膜比Cr_Ⅰ薄.电化学分析表明,Cr_Ⅱ纳米粉表面更易吸附Cl^-,导致其更容易与Ni共电沉积,这是因为表面氧化膜较薄的Cr_Ⅱ粉,氧化膜可被表面吸附的C1^-点蚀而穿透,导电性增强,使得Ni^(2+)更容易在其表面上还原,快速将Cr_Ⅱ嵌入共电沉积层中.
- 宗广霞彭晓
- 关键词：电弧法
- 微晶化对Ni20Cr合金热生长氧化膜应力的影响被引量：1
- 2011年
- 利用氧化膜应力原位测量装置对Ni20Cr微晶涂层/合金体系在1000℃空气中氧化过程中发生的弯曲挠度变化进行测量.结果表明,微晶涂层1000℃氧化所形成的Cr_2O_3氧化膜中存在压应力,应力绝对值高于相同厚度的合金表面的热生长氧化膜,其原因在于涂层/Cr_2O_3界面结合好,应力释放较小.降温冷却过程中,通过微晶涂层的蠕变使部分氧化膜热应力得以释放.
- 张洋宗广霞王福会朱圣龙
- 关键词：微晶化
