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石绍华

作品数:1 被引量:2H指数:1
供职机构:曲阜师范大学物理工程学院激光研究所更多>>
相关领域:理学机械工程更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 1篇晶态
  • 1篇溅射
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶态
  • 1篇薄膜生长
  • 1篇NI
  • 1篇表面磁光克尔...
  • 1篇磁光
  • 1篇磁光克尔
  • 1篇磁光克尔效应
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇曲阜师范大学
  • 1篇临沂大学

作者

  • 1篇李道勇
  • 1篇欧阳雨
  • 1篇曹伟然
  • 1篇石绍华

传媒

  • 1篇物理实验

年份

  • 1篇2012
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
利用表面磁光克尔效应监测Ni薄膜生长的物相转变被引量:2
2012年
利用磁控溅射方法制备了不同厚度和退火处理的Ni薄膜.表面磁光克尔效应研究表明:冷基底无退火处理的Ni薄膜为软磁性,退火处理的Ni薄膜为铁磁性质,且无退火处理的Ni金属膜磁性随膜厚的增加而增强.分析认为,冷基底条件下Ni膜是非晶态生长,且膜内存有大量缺陷,经退火处理的Ni膜发生了重融再生长,形成了大颗粒结晶,膜内晶粒内缺陷大量消失.
石绍华欧阳雨李道勇曹伟然
关键词:磁控溅射表面磁光克尔效应
共1页<1>
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