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淬火方式对2024 Al合金腐蚀行为的影响被引量：4: 2016年; 对2024Al合金进行了固溶处理,采用光学显微镜、场发射扫描电镜、极化曲线、晶间腐蚀、全浸和盐雾试验,研究了淬火方式(空冷和水淬)对2024Al合金的腐蚀性能和腐蚀模式的影响.由于在固溶处理后的空冷过程中有大量第二相析出相,因此空冷试样的耐蚀性明显差于水淬试样,其腐蚀形式为晶间腐蚀和点蚀,而水淬样品主要是发生点蚀.点蚀由晶内杂质相颗粒与基体Al间的电偶腐蚀引起,晶间腐蚀由晶界析出相与其周围的贫Cu区间,以及基体Al与贫Cu区间的电偶腐蚀引起.; 贺春林吕帅白莹莹李蕊解磊鹏马国峰王建明; 关键词：AL 淬火

固溶温度对Al-Cu-Mg-Mn合金组织及性能的影响被引量：3: 2016年; 通过扫描电子显微电镜（SEM）、光学显微镜（OM）、显微硬度计及电化学测试，研究了固溶温度对Al-Cu-Mg-Mn合金组织及性能的影响．结果表明，在455～535℃范围内，随着固溶温度的增加，合金中粗大的第二相逐渐固溶进基体组织中，强化固溶效果得到增强，硬度逐渐提高．然而，随着固溶温度进一步提高，引起了晶粒的长大，硬度逐渐地降低；475～515℃范围内，合金耐蚀性能好；而固溶处理的Al-Cu-Mg-Mn合金在质量分数为3．5％的NaCl中的腐蚀模式为点蚀，点蚀是由于基体与第二相颗粒间形成微电池回路引起的．; 马国峰李蕊贺春林; 关键词：固溶温度

偏压对Ti-Si-N纳米复合膜结构和性能的影响: 2015年; 以高纯Ti和Si为靶材,在不同偏压下于Ar/N2气氛中溅射沉积了Ti-Si-N纳米复合膜,采用原子力显微镜、X射线衍射(XRD)和划痕法研究了复合膜的结构、界面结合力和摩擦系数与偏压的关系.实验结果显示,溅射Ti-Si-N膜层结构为nc-TiN/a-Si3N4/a-和nc-TiSi2复合结构.纳米复合膜的XRD谱图出现(200)、(111)、(220)和(222)面衍射峰,其中的择优取向为(200)面.在偏压为-150V时,薄膜XRD谱图中出现TiSi2(311)面衍射峰.发现适当施加负偏压,有利于获得细小、均匀、致密和平整的Ti-Si-N纳米复合膜.在偏压为-120V时沉积的复合膜组织和性能最好,其表面粗糙度为3.26nm,界面结合强度为53N,平均摩擦系数为0.11.说明偏压对磁控溅射Ti-Si-N纳米复合膜的微结构和性能有明显影响.; 贺春林王苓飞高建君朱跃长解磊鹏李蕊马国峰王建明; 关键词：TI-SI-N 磁控共溅射纳米复合薄膜微结构偏压

铝合金晶界特征与耐蚀性的相关性: 铝合金的耐晶间腐蚀(IGC)性能与晶界析出相和晶界特征有密切关系。研究显示低∑CSL晶界比大角度晶界的晶界能低，IGC抗力更高，因此提高铝合金中低∑CSL晶界的比例可有效改进合金耐IGC性能。　　本文选用不同牌号的铝合金...; 李蕊; 关键词：铝合金晶界特征晶间腐蚀电子背散射衍射耐蚀性

磁控溅射(Ti,Al)N纳米晶薄膜的结构和性能: 2015年; 通过在N2气氛和600℃基体温度下交替溅射Ti和Al靶并通过沉积过程中Ti和Al原子间的互扩散制备了(Ti,Al)N纳米晶薄膜.采用场发射扫描电镜、X射线衍射和纳米压痕技术研究了薄膜的微结构和力学性能.结果表明,(Ti,Al)N膜具有细小、致密和光滑的表面结构.在交替沉积过程中Ti原子会被较小的Al原子取代,形成面心立方结构的(Ti,Al)N薄膜,并存在(200)面择优取向.与TiN薄膜相比,(Ti,Al)N薄膜的晶粒尺寸和晶格常数均有所下降;(Ti,Al)N薄膜的硬度H明显提高,而弹性模量E却稍有降低,其结果使H3/E2比值大幅提高,薄膜的抗塑性变形能力增强.(Ti,Al)N纳米晶薄膜的高性能主要归因于固溶强化机制.; 贺春林高建君张金林王苓飞李蕊解磊鹏马国峰王建明; 关键词：(TI,AL)N 纳米晶薄膜反应溅射微结构力学性能

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李蕊