唐晓红
- 作品数：7 被引量：10H指数：2
- 供职机构：天津师范大学物理与材料科学学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 磁控溅射氧化钛薄膜的光学性能被引量：2
- 2013年
- 常温下,通过反应磁控溅射法在K9双面抛光玻璃基底上制备氧化钛薄膜.采用X线衍射(X-rayDiffraction,XRD)、光栅光谱仪和椭偏仪对氧化钛薄膜样品的结构和光学性能进行测试,并拟合分析得到薄膜的折射率和厚度等光学参数.结果表明:氧化钛纳米薄膜呈非晶态,其折射率和消光系数随波长的变化而变化,薄膜的透射率测量结果和理论计算结果在350～800 nm光波范围内吻合良好.由于氧化钛薄膜的折射率高且在可见光波段吸收小、呈透明状,是用来构成一维光子晶体的理想组分,有关其光学性能的基础研究对光子晶体的结构设计及其器件的开发应用具有积极的意义.
- 程芳黄美东王丽格杜姗唐晓红刘春伟
- 关键词：氧化钛薄膜磁控溅射透射率光学性能消光系数晶体结构
- 不同氩气流量下溅射所得TiO_x薄膜的结构和光学性能
- 2014年
- 为探究不同氩气流量对TiOx薄膜结构和光学性能的影响,采用常温反应磁控溅射法,在K9双面抛光玻璃基底上制备TiOx薄膜样品,利用X线衍射分析样品的晶体结构,通过原子力显微镜观察样品表面结构,使用光栅光谱仪测试样品透射率,并计算得到薄膜沉积速率和消光系数等光学参数.实验结果表明:氩气流量对TiOx薄膜的光学性能具有较为明显的影响,随着氩气流量的增加,薄膜的光学厚度和沉积速率随之增加,而折射率有微小增加,消光系数受氩气流量的影响不大.
- 刘春伟黄美东杜姗唐晓红吕长东
- 关键词：氧化钛薄膜磁控溅射透射谱
- 氧分压对溅射氧化钒薄膜结构和透光性能的影响被引量：3
- 2014年
- 采用射频磁控溅射法,在K9抛光玻璃基底上沉积氧化钒(VOx)薄膜,研究在其他参数保持不变时氧分压参量对薄膜的结构、表面质量及透光性能的影响。利用表面轮廓仪、X射线衍射仪、原子力显微镜及分光光度计分别对样品的沉积速率、物相结构、表面形貌和紫外-近红外光透射率进行分析。结果表明,制备的VOx薄膜的晶相随氧分压不同发生改变,调整氧分压在可见-近红外光区域可获得弱吸收的光学膜,但氧分压过高只能获得低的薄膜沉积速率,氧分压对薄膜表面粗糙度及晶体生长模式也有不同程度的影响。本文对实验结果进行了分析和讨论。
- 唐晓红黄美东杜姗刘春伟高倩王小龙张建鹏杨明敏
- 关键词：氧化钒射频磁控溅射氧分压
- Ar流量对溅射氧化钛薄膜结构和光学性能的影响
- 采用反应磁控溅射法于常温条件下在K9双面抛光玻璃基底上制备氧化钛薄膜。溅射功率为100 W,基底负偏压为80 V,工作气压为0.8 Pa,基底不加热(只受到粒子轰击而升温)的条件下,通过改变Ar流量,在基底上沉积一组Ti...
- 刘春伟黄美东唐晓红吕长东
- 文献传递
- 真空PVD沉积增透多层膜系的设计与优化
- 真空物理气相沉积(PVD)技术在现代光学薄膜器件的制备中发挥了非常重要的作用。为了提高光伏发电设备效率,通常需要获得高的光学透射率,这可利用PVD技术制备合理的多层膜系来实现。对膜系结构的设计与优化就显得尤为重要。本文基...
- 王小龙黄美东白丹阳唐晓红刘春伟
- 文献传递
- 氧氩流量比对溅射氧化钒薄膜结构和光学性能的影响被引量：3
- 2013年
- 采用射频反应磁控溅射方法制备氧化钒(VOx)薄膜,对样品的沉积速率、物相结构、表面形貌和可见光波段的透过率进行表征,研究了在沉积气压一定的情况下,氧氩流量比对氧化钒薄膜结构和光学性能的影响。结果表明,改变氧氩流量比可明显改变薄膜结构,随着氧气比例的增加,沉积速率下降,薄膜表面出现了颗粒结构,颗粒尺寸具有增大的趋势,光透过率增大。
- 杜姗黄美东刘春伟唐晓红吕长东
- 关键词：氧化钒薄膜反应磁控溅射
- 溅射功率对氧化铝薄膜结构和光学性能的影响被引量：2
- 2013年
- 采用射频反应磁控溅射法,在K9双面抛光玻璃基底上制备了一系列不同溅射功率的Al2O3薄膜,并对部分薄膜进行退火处理.利用X线衍射法对Al2O3薄膜退火前后的晶体结构进行分析,采用椭圆偏振光谱仪对薄膜的厚度、折射率和消光系数进行测试和拟合.实验结果表明：测射功率在100~300 W时,沉积的Al2O3薄膜退火前后均为非晶态;薄膜在可见光范围内具有良好的透光性能,透射率接近90%,为透明膜;薄膜的沉积速率随溅射功率的增大而增大;薄膜在可见光波段的折射率n随波长的增大而减小,平均值随溅射功率的增大呈现出先增大后减小的变化趋势;薄膜消光系数k的平均值亦随溅射功率的增大呈现先增大后减小的变化趋势.
- 唐晓红黄美东王丽格杜姗刘春伟
- 关键词：氧化铝薄膜射频磁控溅射光学性能溅射功率消光系数
