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  • 4篇中文期刊文章

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主题

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  • 1篇硅基
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  • 1篇RH

机构

  • 4篇兰州大学

作者

  • 4篇杨建红
  • 4篇杨子健
  • 4篇韦波
  • 3篇崔千红
  • 2篇王敬松
  • 1篇王劲松

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇仪表技术与传...
  • 1篇电子元件与材...
  • 1篇传感器与微系...

年份

  • 4篇2009
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
基于CMOS工艺的硅基PI湿度传感器的研制
2009年
在国内外湿度传感器研究的基础上,基于Si CMOS工艺研制出了以聚酰亚胺(PI)为感湿介质的电容型相对湿度传感器。并对其结构进行了理论分析,仔细确定了湿度传感器的工艺步骤和版图设计。对其测量范围、湿滞和响应时间等特性参数进行了详细的测试。通过实验结果与模拟结果的对比分析,给出了该实验中存在的问题和改进意见,以便在今后的研究中加强这方面的工作。
杨子健韦波王敬松崔千红杨建红
关键词:湿度传感器聚酰亚胺CMOS工艺
聚酰亚胺电容式湿度传感器的制备工艺研究被引量:5
2009年
改变传统丝网印刷制作电极的方法,采用正胶反刻、干湿结合的CMOS工艺研制出了以聚酰亚胺为感湿介质的相对电容式湿度传感器。并对其结构进行了理论分析,确定了湿度传感器的工艺步骤和版图设计。对其测量范围、湿滞和响应时间进行了测试。通过实验结果与模拟结果的对比分析,给出了该实验中存在的问题和改进意见。
杨子健韦波王敬松崔千红杨建红
关键词:湿度传感器电容CMOS工艺
CMOS工艺制备聚酰亚胺电容型湿度传感器及其性能被引量:5
2009年
以正胶光刻和干湿刻蚀方法,结合CMOS工艺制备了聚酰亚胺电容型湿度传感器。研究了硅基、钼–铝栅条状电极湿度传感器的结构及亚胺化温度对其性能的影响。结果表明:相对湿度(RH)为20%~80%发生准静态变化时,该传感器的湿度–电容曲线具有较好的线性度;外界相对湿度在12%和92%间发生阶跃变化时,响应时间约为40s。
崔千红杨子健韦波杨建红
关键词:湿度传感器电容型聚酰亚胺CMOS工艺
基于CMOS制造工艺的电容型湿度传感器被引量:1
2009年
设计了一种基于CMOS制造工艺的电容型湿度传感器,详细讲述了制作过程。通过引入平行板电容模型和水分子吸附模型研究了其工作机理,通过实验对其湿容特性、响应特性、湿滞等参数做了测试与分析。制作过程中的难点在于聚酰胺酸膜的亚胺化以及聚酰亚胺的光刻工艺。
韦波杨子健王劲松杨建红
关键词:湿度传感器CMOS工艺等温吸附线
共1页<1>
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