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蒲云体

作品数:26 被引量:19H指数:3
供职机构:成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金:国家重点基础研究发展计划国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学电子电信机械工程更多>>

文献类型

  • 19篇专利
  • 7篇期刊文章

领域

  • 7篇理学
  • 4篇电子电信
  • 1篇机械工程

主题

  • 13篇光学
  • 11篇激光
  • 7篇偏振
  • 7篇偏振无关
  • 5篇刻蚀
  • 5篇光学薄膜
  • 5篇光栅
  • 4篇折射率
  • 4篇抛光
  • 4篇离子束
  • 4篇激光损伤
  • 3篇致密
  • 3篇致密性
  • 3篇中红外
  • 3篇中红外激光
  • 3篇熔石英
  • 3篇散射
  • 3篇散射损耗
  • 3篇损伤阈值
  • 3篇匹配层

机构

  • 24篇成都精密光学...
  • 3篇四川大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国工程物理...
  • 1篇武汉理工大学

作者

  • 26篇蒲云体
  • 23篇马平
  • 19篇张明骁
  • 18篇乔曌
  • 17篇吕亮
  • 14篇邱服民
  • 8篇王刚
  • 6篇鄢定尧
  • 4篇朱衡
  • 4篇黄金勇
  • 3篇朱基亮
  • 2篇陈松林
  • 2篇胡江川
  • 2篇朱建国
  • 2篇胡庆
  • 1篇罗远晟
  • 1篇肖定全
  • 1篇杜翀
  • 1篇马平
  • 1篇刘浩

传媒

  • 1篇红外与激光工...
  • 1篇激光技术
  • 1篇强激光与粒子...
  • 1篇四川大学学报...
  • 1篇广州化工
  • 1篇压电与声光
  • 1篇材料科学与工...

年份

  • 1篇2024
  • 3篇2021
  • 1篇2020
  • 9篇2019
  • 2篇2018
  • 4篇2017
  • 3篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2011
  • 1篇2010
26 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种红外低折射率光学薄膜及其制备方法
本发明公开了一种红外低折射率光学薄膜及其制备方法,属于光学薄膜领域。所述红外低折射率光学薄膜通过有效的制备方法并采用稀土族元素氟化物YF<Sub>3</Sub>制备得到,通过该方法制备得到的红外低折射率光学薄膜具有无定形...
蒲云体马平王刚卢忠文吕亮张明骁邱服民乔曌彭东旭
低缺陷光学薄膜制备方法及其制品
本发明公开了一种低缺陷光学薄膜制备方法及其制品。薄膜制备方法包括:热处理过程、采用离子束溅射方式镀制第一膜层的过程、采用离子束辅助电子束蒸镀方式镀制第二膜层的过程、薄膜表面平坦化处理的过程,采用电子束蒸镀方式镀涂第三膜层...
蒲云体马平彭东旭邱服民乔曌卢忠文吕亮张明骁
文献传递
基于折射率调控薄膜的偏振无关反射式介质光栅
本发明涉及一种基于折射率调控薄膜的偏振无关反射介质光栅,属于光学领域,所述光栅包括衬底1和光栅层4,并且衬底1上依次镀制有反射膜2、氧化物介质膜连接层3,并在光栅层刻蚀光栅槽结构;所述反射膜2为折射率调控多层介质薄膜,该...
张明骁马平蒲云体乔曌卢忠文吕亮邱服民
文献传递
基于覆盖折射率匹配层的偏振无关光栅及其制备方法
本发明公开了一种中心波长在近红外波段的高刻线密度、基于覆盖折射率匹配层的宽带偏振无关反射式介质光栅及其制备方法,涉及光学领域。所述光栅在熔石英衬底(1)上依次镀制有反射膜(2)和光栅功能层(3)。本发明提供的光栅结构针对...
张明骁马平卢忠文蒲云体乔曌吕亮邱服民
基于覆盖折射率匹配层的偏振无关光栅及其制备方法
本发明公开了一种中心波长在近红外波段的高刻线密度、基于覆盖折射率匹配层的宽带偏振无关反射式介质光栅及其制备方法,涉及光学领域。所述光栅在熔石英衬底(1)上依次镀制有反射膜(2)和光栅功能层(3)。本发明提供的光栅结构针对...
张明骁马平卢忠文蒲云体乔曌吕亮邱服民
文献传递
多层介质膜脉冲压缩光栅激光损伤特性研究进展被引量:2
2017年
本文结合国内外研究情况,概括性介绍了用于啁啾脉冲放大系统中的多层介质膜脉冲压缩光栅的激光损伤特性研究进展,包括多层介质膜的损伤、表面浮雕结构的损伤,以及介质膜光栅损伤的影响因素。在关于介质膜光栅激光损伤的影响因素中又分别介绍了槽型结构、制备工艺、激光参数、脉冲数量、热应力和杂质缺陷对其抗激光损伤阈值的影响。最后,从结构设计、制备工艺以及后期处理等方面,介绍了提高多层介质膜光栅抗激光损伤阈值的常用方法。
邱志方王敏辉蒲云体马平
关键词:激光损伤影响因素损伤阈值
一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法
本发明公开了一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法,涉及光学制造与光学材料加工领域。该方法包括:(1)首先确定抛光盘特征参数;(2)对抛光盘进行环带分割,并计算环带去除函数h<Sub>i</Sub>;(3)根...
吕亮黄金勇胡庆蒲云体马平鄢定尧张明骁朱衡刘杰
文献传递
渐变折射率Ta_2O_5/SiO_2薄膜多脉冲激光损伤特性被引量:3
2014年
采用离子束溅射(IBS)的方式,制备了1064nm高反射Ta2O5/SiO2渐变折射率光学薄膜。对其光学性能和在基频多脉冲下抗损伤性能进行了分析。通过渐变折射率的设计方式,很好地抑制了边带波纹,增加了1064nm反射率。通过对损伤阈值的分析发现,随着脉冲个数的增加,损伤阈值下降明显;但是在20个脉冲数后,损伤阈值(维持在22J/cm2左右)几乎保持不变直到100个脉冲数。通过Leica显微镜对损伤形貌的观察,发现损伤诱因是薄膜表面的节瘤缺陷。通过扫描电镜(SEM)以及聚集离子束(FIB)对薄膜表面以及断面的观察,证实了薄膜的损伤起源于薄膜表面的节瘤缺陷。进一步研究得出,渐变折射率薄膜在基频光单脉冲下损伤主要是由初始节瘤缺陷引起的,在后续多脉冲激光辐照下初始节瘤缺陷引起烧蚀坑的面积扩大扫过薄膜上的其他节瘤缺陷,引起了其他节瘤缺陷的喷射使损伤加剧,造成损伤的"累积效应"。
蒲云体陈松林乔曌刘浩王刚胡江川马平
关键词:离子束溅射多脉冲损伤阈值
一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置
本发明公开了一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置,包括酸液输运单元、搅拌混合单元、抛光液输运单元和喷头,采用方法为将熔石英元件在特定浓度的氢氟酸稀溶液中浸泡5~10min,去除表面污染物与抛光再沉积层;根据...
吕亮马平鄢定尧朱衡黄金勇蒲云体蔡超王刚张明骁
锂离子电池的热稳定性和大电流充放电稳定性研究被引量:4
2011年
利用电池测试系统和电化学工作站研究了DLG IRC18490柱形锂离子电池(L iCoO2/石墨C)不同温度及不同电流充电条件下的稳定性,结合阻抗分析软件Zview对得到的不同测试条件下的电化学阻抗谱进行了拟合,对锂离子电池内部电化学反应重要参数I0进行了理论计算。结果表明,当温度从室温升高到60℃时,固体电解质膜(SE I)的电阻Rse i和电荷传递电阻Rct均增大,体电阻相对稳定。在不同的荷电状态下,Rct随荷电量的增加而减小。并对I0进行了定量的计算,揭示了锂离子电池在不同充电电流和不同荷电状态下出现的不稳定性。研究结果对锂离子电池在常温下的应用具有重要指导意义。
朱基亮杜翀何亮明刘静蒲云体李绪海朱建国徐明
关键词:锂离子电池电化学阻抗谱充电
共3页<123>
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