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李景慧

作品数：1 被引量：1H指数：1
供职机构：安阳师范学院人文管理学院更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇溅射功率
  • 1篇功率
  • 1篇硅薄膜
  • 1篇非晶硅
  • 1篇非晶硅薄膜
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇安阳师范学院

作者

  • 1篇郑金松
  • 1篇周德让
  • 1篇未庆超
  • 1篇李景慧

传媒

  • 1篇产业与科技论...

年份

  • 1篇2016
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
功率对磁控溅射法制备非晶硅薄膜的影响被引量：1
2016年
利用直流磁控溅射设备,以纯度为99.99%P型单晶硅为靶材,以石英玻璃为衬底,在50W^300W的范围内改变溅射功率,将制备后的薄膜进行厚度测量,进而得出沉积速率,绘制出来溅射功率与沉积速率之间的关系。结果表明:在50W^300W范围内,沉积速率随着溅射功率的增加过程大致呈线性关系。
周德让郑金松未庆超李景慧
关键词：磁控溅射溅射功率非晶硅薄膜
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