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彭帅

作品数:3 被引量:8H指数:2
供职机构:昆明理工大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家科技型中小企业技术创新基金更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇液相
  • 2篇铜粉
  • 2篇前驱体
  • 1篇导电性
  • 1篇氧化亚铜
  • 1篇液相还原
  • 1篇升温速率
  • 1篇水合
  • 1篇水合肼
  • 1篇水合肼还原
  • 1篇微观结构
  • 1篇两步法
  • 1篇密实
  • 1篇密实性
  • 1篇厚膜
  • 1篇附着力
  • 1篇
  • 1篇超细铜粉

机构

  • 3篇昆明理工大学
  • 1篇昆山万丰电子...

作者

  • 3篇朱晓云
  • 3篇彭帅
  • 1篇龙晋明
  • 1篇马国超
  • 1篇裴占玲

传媒

  • 1篇金属热处理
  • 1篇热加工工艺
  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2016
  • 1篇2014
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
液相还原两步法中前驱体对铜粉密实性的影响研究被引量:2
2014年
通过液相还原两步法制备氧化亚铜颗粒进而制备铜粉,分别以立方体、球形、八面体氧化亚铜颗粒为前驱体,考察了前驱体对铜粉密实性的影响。利用XRD、SEM、激光粒度分析仪、氮吸附比表面仪对样品进行了表征。研究结果表明:以立方体氧化亚铜为前驱体制备的球形铜粉更密实,即振实密度大、比表面积小、粒径分布窄,适合制备导电铜浆。
彭帅朱晓云
关键词:前驱体氧化亚铜铜粉密实
液相还原法制备超细铜粉的研究被引量:5
2016年
采用两步还原法,以氧化亚铜作为前驱制备了超细球形铜粉,其具备粒径分布窄、分散性好和松装密度大等优点。讨论了液相还原法制备超细铜粉的工艺。利用SEM、XRD、欧姆电阻仪及激光粒度分析仪对样品进行了表征,分析了影响铜粉的几个主要因素,包括前驱体、PVP、干燥方法、反应物浓度和反应温度等。结果表明:以上因素对铜粉压实电阻、粒径等均有影响。
李居衡马国超裴占玲彭帅龙晋明朱晓云
关键词:超细铜粉前驱体水合肼还原
烧结升温速率对铜厚膜微观结构和性能的影响被引量:1
2017年
将自制的铜浆印刷在Al_2O_3陶瓷基片上,经烧结制备成铜厚膜,并利用扫描电子显微镜(SEM)和综合热分析仪(TG-DSC)分别研究了烧结过程中低温段(23~500℃)和高温段(500~850℃)的升温速率对铜厚膜微观结构和性能的影响。结果表明:在低温段,随着升温速率(30~90℃/min)的增加,铜厚膜的致密度和附着力先增大后减小,方阻先变小后变大。在高温段,随着升温速率(20~100℃/min)的增加,铜厚膜的致密度和附着力先增大后减小,方阻先变小后变大。低温段升温速率为75℃/min、高温段升温速率为60℃/min的条件下,制备的铜厚膜性能较优,致密度高、导电性好、附着力强。
喻文志朱晓云彭帅李伟力
关键词:升温速率微观结构附着力导电性
共1页<1>
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