刘学璋
- 作品数：7 被引量：20H指数：2
- 供职机构：长沙矿冶研究院更多>>
- 发文基金：湖南省自然科学基金更多>>
- 相关领域：化学工程金属学及工艺一般工业技术机械工程更多>>
- 不同粒度纳米金刚石抛光微晶玻璃的研究被引量：8
- 2007年
- 选用4种不同粒度的纳米金刚石抛光微晶玻璃,考察了纳米金刚石磨料的粒度对抛光速率和表面粗糙度的影响。采用AFM分析不同抛光表面的微观形貌,讨论了纳米金刚石与微晶玻璃的作用机制。结果表明:采用纳米金刚石抛光微晶玻璃可获得亚纳米级的表面粗糙度;随纳米金刚石粒度的降低,纳米金刚石的抛光速率减小,微晶玻璃表面平均粗糙度降低;微晶玻璃表面晶粒的不同断裂方式影响抛光后的表面粗糙度。
- 刘学璋王柏春许向阳谢圣中翟海军
- 关键词：纳米金刚石抛光微晶玻璃
- 水介质中纳米CeO_2的表面电性研究
- 2008年
- 为改善纳米CeO2在水介质中的稳定分散,在分析纳米CeO2各种性质的基础上,研究了介质pH值、无机电解质、阴离子表面活性剂对纳米CeO2表面电性的影响,并对分散机理进行了分析。结果表明:添加无机电解质可以显著降低碱性水介质中纳米CeO2的ζ电位,对于改善纳米CeO2在碱性区域内的稳定性有较好的效果。
- 谢圣中王柏春许向阳翟海军刘学璋
- 关键词：纳米CEO2水介质表面电性Ζ电位
- 硬盘微晶玻璃基板的纳米金刚石抛光被引量：9
- 2007年
- 应用经良好分散的纳米金刚石对硬盘微晶玻璃基板进行抛光,获得了亚纳米级表面(0.618nm)。分析了纳米金刚石抛光的行为,展望了纳米金刚石在超精密抛光领域的应用。
- 刘学璋王柏春许向阳谢圣中翟海军
- 关键词：抛光纳米金刚石
- Ni-P-纳米金刚石化学复合镀研究被引量：2
- 2006年
- 采用制备的粒度150nm以内的复合镀用纳米金刚石悬浮液进行了Ni-P-纳米金刚石化学复合镀研究，研究了工艺条件包括纳米金刚石加入量、搅拌方式、离子型和非离子型表面活性剂及其组合的加入对复合镀镀速和镀层性能的影响。结果表明：纳米化学复合镀要求镀液有更好的稳定性；镀速与搅拌方式有关．并且随纳米金刚石的加入而提高；组合型表面活性剂对复合镀层性能提高明显；表面形貌分析观察到镀层中纳米金刚石分布均匀．颗粒在100-200nm左右。
- 王柏春翟海军许向阳谢圣中刘学璋
- 关键词：化学复合镀
- 光盘模具镜面超精密抛光研究被引量：1
- 2008年
- 为了获得超光滑光盘模具镜面,选用金刚石磨料抛光光盘模具。分析了金刚石粒度、分散介质与抛光盘硬度等因素对表面质量的影响。试验结果表明:采用0.1μm粒度的油性金刚石抛光液,硬度为20.8 HV的抛光盘,在合适的抛光工艺条件下可获得表面粗糙度Ra=0.57 nm,平面度Pv达到0.56μm的超光滑镜面。
- 刘学璋王柏春
- 关键词：镜面金刚石
- 计算机硬盘微晶玻璃基板抛光研究被引量：2
- 2008年
- 计算机硬盘微晶玻璃基板的微观结构性能与化学成分都不连续，显微硬度非常高（900kg／mm^2～1000kg／mm^2），难以获得亚纳米级光滑表面。讨论了微晶玻璃基板结构性能、抛光机理、抛光工艺条件等因素对抛光效果的影响。结果表明，硬盘微晶玻璃基板的结晶相颗粒大小、玻璃相与结晶相的比例都会影响抛光表面质量；化学机械抛光引起玻璃相的优先抛除，该作用机理不适宜于微晶玻璃基板抛光。工艺条件中压力对微晶玻璃基板的表面粗糙度影响最大，抛光中需要维持合适的压力。选取合适的抛光条件，最终获得了粗糙度为0．208nm（AFM：5μm×5μm）的光滑表面。
- 刘学璋王柏春许向阳谢圣中翟海军
- 关键词：化学机械抛光纳米金刚石
- 弱碱性水介质中纳米CeO2的分散被引量：2
- 2008年
- 在分析纳米CeO2各种性质的基础上，研究了不同分散剂对纳米CeO2的表面电性及平均粒度的影响，并对分散机理进行了分析。结果表明：添加无机电解质及组合使用离子型表面活性剂和非离子型表面活性剂可以使纳米CeO2在弱碱性水介质中保持良好的分散性。
- 谢圣中王柏春许向阳刘学璋翟海军
- 关键词：纳米CEO2水介质Ζ电位
