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王曦

作品数:2 被引量:3H指数:1
供职机构:中国科学院物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金浙江省自然科学基金国家重点实验室开放基金更多>>
相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇动力学
  • 1篇动力学模拟
  • 1篇载流子
  • 1篇载流子注入
  • 1篇水凝胶
  • 1篇热载流子
  • 1篇热载流子注入
  • 1篇晶体管
  • 1篇绝缘层
  • 1篇绝缘层上硅
  • 1篇胶态
  • 1篇沟道
  • 1篇沟道长度
  • 1篇分子
  • 1篇分子动力学
  • 1篇分子动力学模...
  • 1篇DNA
  • 1篇场效应
  • 1篇场效应晶体管
  • 1篇超短

机构

  • 2篇中国科学院
  • 1篇南京大学
  • 1篇浙江大学
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 2篇王曦
  • 1篇俞文杰
  • 1篇赵毅
  • 1篇刘畅
  • 1篇卢继武
  • 1篇唐晓雨
  • 1篇张睿
  • 1篇叶方富
  • 1篇黎明
  • 1篇周昕

传媒

  • 2篇物理学报

年份

  • 1篇2017
  • 1篇2015
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
DNA超分子水凝胶的粗粒化建模与模拟被引量:1
2017年
DNA超分子水凝胶在生物、医学领域具有广阔的应用前景,基于计算模拟技术研究其分子结构与其宏观性能关系具有重要意义.归因于其复杂的结构和较大的相关时间空间尺度,目前针对DNA水凝胶的分子建模与模拟研究比较缺乏.本文建立了一种DNA水凝胶的粗粒化模型,采用分子动力学模拟的方法针对一种模块化纯DNA水凝胶进行了研究.模拟结果表明其凝胶态介观结构为多孔海绵状,其交联度与水凝胶的浓度成正相关,并得出了其转变温度的范围等.模拟结果与相关实验定性或半定量符合,表明该模型可能用于该模块化DNA水凝胶等类似系统的结构功能关系研究.
王曦黎明叶方富周昕
关键词:分子动力学模拟
超短沟道绝缘层上硅平面场效应晶体管中热载流子注入应力导致的退化对沟道长度的依赖性被引量:2
2015年
随着场效应晶体管(MOSFET)器件尺寸的进一步缩小和器件新结构的引入,学术界和工业界对器件中热载流子注入(hot carrier injections,HCI)所引起的可靠性问题日益关注.本文研究了超短沟道长度(L=30—150 nm)绝缘层上硅(silicon on insulator,SOI)场效应晶体管在HCI应力下的电学性能退化机理.研究结果表明,在超短沟道情况下,HCI应力导致的退化随着沟道长度变小而减轻.通过研究不同栅长器件的恢复特性可以看出,该现象是由于随着沟道长度的减小,HCI应力下偏压温度不稳定性效应所占比例变大而导致的.此外,本文关于SOI器件中HCI应力导致的退化和器件栅长关系的结果与最近报道的鳍式场效晶体管(Fin FET)中的结果相反.因此,在超短沟道情况下,SOI平面MOSFET器件有可能具有比Fin FET器件更好的HCI可靠性.
刘畅卢继武吴汪然唐晓雨张睿俞文杰王曦赵毅
关键词:绝缘层上硅场效应晶体管热载流子注入沟道长度
共1页<1>
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