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杨丰

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：昆明理工大学更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇学位论文
  • 1篇专利

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 1篇电导
  • 1篇电导率
  • 1篇退火
  • 1篇退火温度
  • 1篇离子
  • 1篇离子电导率
  • 1篇晶界
  • 1篇晶界扩散
  • 1篇均匀磁场
  • 1篇溅射靶材
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射法制备
  • 1篇高真空
  • 1篇非均匀磁场
  • 1篇靶材
  • 1篇磁场
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 2篇昆明理工大学

作者

  • 2篇杨丰
  • 1篇孟彬
  • 1篇朱延俊

年份

  • 2篇2017
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
一种磁控溅射靶材
本实用新型公开一种磁控溅射靶材，属于高真空磁控溅射镀膜领域。所述靶材包括圆环状靶材、带凹槽靶材，带凹槽靶材的凹槽和圆环状靶材的形状相同，圆环状靶材放置在带凹槽靶材的凹槽上，圆环状靶材对应非均匀磁场部分，带凹槽靶材除凹槽以...
杨丰孟彬吴闪林作亮朱延俊
文献传递
异价元素扩散掺杂对磁控溅射法制备的GDC薄膜电导行为的影响
相比传统的氧离子导体固态电解质Y掺杂的稳定Zr02(YSZ),Gd掺杂的Ce02(GDC)因其在中温条件下具有更高的电导率而被广泛研究。为了满足电解质材料薄膜化、中温化的发展趋势,对GDC电解质的制备工艺以及电导性能的研...
杨丰
关键词：磁控溅射离子电导率晶界扩散退火温度
文献传递
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共1页<1>
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