您的位置： 专家智库 > >

刘效岩

作品数：61 被引量：79H指数：6
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>
发文基金：国家自然科学基金国家教育部博士点基金国家中长期科技发展规划重大专项更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺化学工程医药卫生更多>>

合作作者

领域

  • 50个电子电信
  • 25个自动化与计算...
  • 20个金属学及工艺
  • 18个化学工程
  • 17个一般工业技术
  • 16个文化科学
  • 16个理学
  • 13个电气工程
  • 9个环境科学与工...
  • 9个医药卫生
  • 7个机械工程
  • 6个轻工技术与工...
  • 5个生物学
  • 5个石油与天然气...
  • 4个建筑科学
  • 3个经济管理
  • 3个天文地球
  • 3个交通运输工程
  • 2个冶金工程
  • 2个农业科学

主题

  • 37个机械抛光
  • 35个化学机械抛光
  • 30个抛光
  • 29个CMP
  • 27个抛光液
  • 22个去除速率
  • 21个磨料
  • 21个粗糙度
  • 20个电路
  • 20个抛光速率
  • 20个碱性抛光液
  • 20个ULSI
  • 19个衬底
  • 18个离子
  • 17个溶胶
  • 17个面粗糙度
  • 16个互连
  • 15个半导体
  • 15个CU
  • 12个低压

机构

  • 43个河北工业大学
  • 11个北京七星华创...
  • 2个天津大学
  • 2个河北科技大学
  • 2个天津理工大学
  • 1个福建工程学院
  • 1个河北工学院
  • 1个河南大学
  • 1个天津音乐学院
  • 1个新疆师范大学
  • 1个天津职业技术...
  • 1个中国电子科技...
  • 1个河北化工医药...
  • 1个中国人民政治...
  • 1个华润集团有限...
  • 1个石家庄市第一...
  • 1个杭州西湖房地...
  • 1个北京石油化工...

资助

  • 31个国家自然科学...
  • 23个国家教育部博...
  • 22个国家科技重大...
  • 19个天津市自然科...
  • 19个国家中长期科...
  • 17个河北省自然科...
  • 7个河北省高等学...
  • 7个河北省教育厅...
  • 7个河北省教育厅...
  • 5个博士科研启动...
  • 5个河北省科技计...
  • 4个河北省教育厅...
  • 4个教育部重点实...
  • 3个河北省科技攻...
  • 3个新疆维吾尔自...
  • 3个天津市应用基...
  • 3个河北省应用基...
  • 3个河北省科学技...
  • 3个国家重点实验...
  • 3个河北省教委基...

传媒

  • 38个半导体技术
  • 23个微纳电子技术
  • 12个河北工业大学...
  • 11个功能材料
  • 6个Journa...
  • 5个稀有金属材料...
  • 5个化工学报
  • 5个稀有金属
  • 5个精细化工
  • 5个河北科技大学...
  • 5个微电子学
  • 4个电镀与涂饰
  • 4个化工进展
  • 4个Chines...
  • 4个过程工程学报
  • 4个微细加工技术
  • 4个河北工业大学...
  • 4个电子设计工程
  • 3个光电子．激光
  • 3个化工时刊

地区

  • 41个天津市
  • 11个北京市
  • 4个河北省
  • 1个新疆
共 57 条 记 录，以下是 1-10
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴仪
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：晶片 卡盘 晶圆 夹持 半导体晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡轶
供职机构：新疆师范大学化学化工学院
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 碱性抛光液 抛光速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姬丹丹
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：硅片 卡盘 夹持 晶片 种盘
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
初国超
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：储液罐 超微 超纯水 雾化液 雾化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
冯晓敏
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：晶圆 射孔 静电 清洗方法 气体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘海晓
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 速率 CMP 去除速率 化学机械平坦化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何彦刚
供职机构：河北工业大学
研究主题：抛光液 阻挡层 CMP 化学机械抛光 抛光表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田军
供职机构：河北工业大学
研究主题：硬盘基板 CMP 粗糙度 计算机 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李晖
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 速率 去除速率 超纯水 机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
全选 清除 导出
共6页<123456>
聚类工具0