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王利杰

作品数：9 被引量：28H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术理学一般工业技术更多>>

合作作者

领域

  • 21个电子电信
  • 14个理学
  • 10个一般工业技术
  • 8个机械工程
  • 7个金属学及工艺
  • 6个化学工程
  • 5个电气工程
  • 3个自动化与计算...
  • 1个社会学

主题

  • 14个碳化硅
  • 13个单晶
  • 11个碳化
  • 11个高温
  • 11个PVT
  • 10个氮化
  • 9个氮化铝
  • 9个籽晶
  • 9个晶体
  • 8个英寸
  • 8个离子
  • 7个电阻率
  • 7个石墨
  • 7个石墨烯
  • 6个氮化镓
  • 6个质谱
  • 6个碳化硅单晶
  • 6个抛光
  • 6个均匀性
  • 6个硅单晶

机构

  • 21个中国电子科技...
  • 3个中国电子科技...
  • 2个河北工业大学
  • 2个中华人民共和...
  • 1个天津大学
  • 1个电子工业部
  • 1个中电集团
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 9个国家自然科学...
  • 3个中国博士后科...
  • 3个天津市科技计...
  • 2个国家高技术研...
  • 2个国家重点基础...
  • 2个博士后科研启...
  • 2个河北省自然科...
  • 1个国家部委资助...
  • 1个中国人民解放...

传媒

  • 15个半导体技术
  • 9个硅酸盐学报
  • 7个压电与声光
  • 7个微纳电子技术
  • 6个现代仪器
  • 6个科技创新导报
  • 5个硅酸盐通报
  • 5个功能材料
  • 4个人工晶体学报
  • 4个兵器材料科学...
  • 4个电子工业专用...
  • 4个固体电子学研...
  • 4个中国电子科学...
  • 3个2014`全...
  • 2个天津科技
  • 2个波谱学杂志
  • 2个红外与毫米波...
  • 2个微波学报
  • 2个电子元件与材...
  • 2个材料科学与工...

地区

  • 20个天津市
  • 1个北京市
共 21 条 记 录，以下是 1-10
刘金鑫
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：碳化硅 CVD TAC涂层 高温化学 气相沉积法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
齐海涛
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：籽晶 PVT ALN 碳化硅 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王香泉
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：碳化硅 碳化硅单晶 籽晶 半绝缘 英寸
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
洪颖
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：SIC 碳化硅 籽晶 半绝缘 4H-SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄森鹏
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：高温 石墨烯 AFM SIC 拉曼光谱
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张志欣
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：籽晶 碳化硅 PVT 氮化铝 形貌分析
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴华
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：SIC 石墨烯 电阻率 半绝缘 高温
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
于凯
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：LEC GASB 碳化硅 掺杂量 INSB
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙希鹏
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：高温 石墨烯 AFM SIC 拉曼光谱
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙信华
供职机构：河北工业大学信息工程学院
研究主题：石墨烯 SIC 高温 场效应晶体管 缓冲层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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