您的位置： 专家智库 > >

于妍

作品数：8 被引量：17H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 15个电子电信
  • 4个化学工程
  • 3个机械工程
  • 3个电气工程
  • 3个自动化与计算...
  • 2个冶金工程
  • 2个金属学及工艺
  • 2个动力工程及工...
  • 2个建筑科学
  • 2个一般工业技术
  • 2个理学
  • 1个环境科学与工...

主题

  • 12个单晶
  • 10个晶片
  • 10个粗糙度
  • 9个单晶片
  • 9个锗
  • 8个抛光
  • 8个抛光片
  • 8个化学腐蚀
  • 8个化学机械抛光
  • 8个机械抛光
  • 7个翘曲度
  • 7个硅单晶
  • 6个特性分析
  • 5个电池
  • 5个损伤层
  • 5个清洗技术
  • 5个碱腐蚀
  • 4个单晶硅
  • 4个数值模拟
  • 4个酸腐蚀

机构

  • 15个中国电子科技...
  • 3个中国电子科技...
  • 1个天津工业大学
  • 1个天津大学
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 3个国家高技术研...
  • 2个国家部委资助...
  • 2个国家科技部专...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个天津市自然科...

传媒

  • 12个半导体技术
  • 11个电子工业专用...
  • 7个天津科技
  • 4个电子工艺技术
  • 4个中国电子科学...
  • 3个材料导报
  • 3个微纳电子技术
  • 2个节能技术
  • 2个第十五届全国...
  • 1个电源技术
  • 1个工业水处理
  • 1个光电子技术
  • 1个压电与声光
  • 1个中国新技术新...
  • 1个中国科技博览
  • 1个科技视界
  • 1个科技创新与应...
  • 1个华东科技（学...
  • 1个科技经济导刊
  • 1个第十三届全国...

地区

  • 13个天津市
  • 1个江苏省
  • 1个北京市
共 15 条 记 录，以下是 1-10
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 锗 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吕菲
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 抛光片 化学腐蚀 单晶片 锗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康洪亮
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：倒角 硅片 转速 APCVD 翘曲度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘春香
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 单晶片 粗糙度 超薄 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
秦学敏
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：化学腐蚀 粗糙度 光洁度 单晶片 特性分析
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宋晶
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：一致性 表面粗糙度 光散射 硅抛光片 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田原
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 粗糙度 抛光片 化学机械抛光 硅单晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李响
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：SIC 化学机械抛光 平行度 抛光液 锗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张贺强
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅片 单晶硅 晶向 线锯 翘曲度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
全选 清除 导出
共2页<12>
聚类工具0