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李晖

作品数：12 被引量：19H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信理学一般工业技术电气工程更多>>

合作作者

领域

  • 18个电子电信
  • 10个理学
  • 8个化学工程
  • 8个一般工业技术
  • 4个机械工程
  • 4个电气工程
  • 3个金属学及工艺
  • 3个轻工技术与工...
  • 2个自动化与计算...
  • 1个医药卫生

主题

  • 13个晶体
  • 12个气相外延
  • 11个氮化镓
  • 11个衍射
  • 11个双晶衍射
  • 11个氢化
  • 11个氢化物
  • 11个化物
  • 11个厚层
  • 11个X射线双晶衍...
  • 10个单晶
  • 10个氮化
  • 10个载气
  • 9个氮化铝
  • 8个氢化物气相外...
  • 8个位错
  • 7个位错密度
  • 6个单晶生长
  • 6个英寸
  • 6个射线衍射

机构

  • 18个中国电子科技...
  • 1个河北工业大学
  • 1个天津大学
  • 1个中华人民共和...
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 8个国家自然科学...
  • 4个天津市科技计...
  • 4个天津市自然科...
  • 4个中国人民解放...
  • 2个国家高技术研...
  • 2个国家重点基础...
  • 2个中国博士后科...
  • 1个博士后科研启...
  • 1个国家部委资助...
  • 1个河北省自然科...

传媒

  • 13个微纳电子技术
  • 12个半导体技术
  • 10个固体电子学研...
  • 9个人工晶体学报
  • 8个压电与声光
  • 7个天津科技
  • 6个硅酸盐学报
  • 5个功能材料
  • 4个材料科学与工...
  • 4个第十六届全国...
  • 4个2014`全...
  • 3个硅酸盐通报
  • 3个红外技术
  • 3个电子工业专用...
  • 3个炭素技术
  • 2个河南科技
  • 2个波谱学杂志
  • 2个兵器材料科学...
  • 2个微波学报
  • 2个微电子学

地区

  • 18个天津市
共 18 条 记 录，以下是 1-10
高飞
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 表面粗糙度 4H-SIC SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
程红娟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：单晶 晶体 HVPE 氮化镓 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐永宽
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE GAN 氮化镓 氢化物气相外延 DAST
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐世海
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 晶片 GASB CMP工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
史月增
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：PVT ALN 籽晶 单晶 X射线双晶衍射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨丹丹
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：氮化镓 氢化物气相外延 HVPE 载气 X射线双晶衍射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王磊
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：SIC 粗糙度 表面粗糙度 CMP SI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐所成
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：X射线双晶衍射 氮化镓 厚层 氢化物 气相外延
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张嵩
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：HVPE GAN 氢化物气相外延 氮化镓 GAAS衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张弛
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：吸盘 转速 切入 倒角 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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