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赵光军

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 7个电子电信
  • 5个理学
  • 3个冶金工程
  • 1个化学工程
  • 1个金属学及工艺
  • 1个机械工程
  • 1个动力工程及工...
  • 1个交通运输工程

主题

  • 7个抗辐照
  • 7个抗辐照加固
  • 7个辐照加固
  • 6个单晶
  • 6个硅单晶
  • 4个单晶生长
  • 4个位错
  • 4个晶向
  • 4个硅单晶生长
  • 4个掺磷
  • 3个单晶炉
  • 3个直拉法
  • 2个砷化镓
  • 2个砷化镓单晶
  • 2个适应性
  • 2个太阳能级
  • 2个碳复合材料
  • 2个黏度
  • 2个位错密度
  • 2个线切割

机构

  • 7个中国电子科技...
  • 2个天津大学
  • 1个中国电子科技...
  • 1个电子部

资助

  • 2个天津市自然科...
  • 2个国家部委资助...
  • 1个国家自然科学...

传媒

  • 7个第十三届全国...
  • 6个天津科技
  • 6个电子工业专用...
  • 4个半导体技术
  • 1个燃烧科学与技...
  • 1个Journa...
  • 1个车用发动机
  • 1个工程塑料应用
  • 1个实验力学
  • 1个现代塑料加工...
  • 1个内燃机工程
  • 1个天津大学学报...
  • 1个半导体杂志
  • 1个天津大学学报
  • 1个第十五届全国...
  • 1个LED产业及...

地区

  • 7个天津市
共 7 条 记 录，以下是 1-7
史继祥
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：少子寿命 电阻率 硼 晶向 Γ辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王世援
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅单晶 碳 碳复合材料 掺磷 硅单晶生长
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
栾国旗
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：多晶硅 提纯 真空 SIC 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘锋
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅单晶 直拉法 SI 锗 单晶生长
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王富田
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：掺磷 硅单晶生长 硅单晶 位错 抗辐照加固
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李丹
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：汽油机 滚流 硅单晶 进气道 缸内
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
纪秀峰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：微波 英寸 砷化镓 压延 高介电常数
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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