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秦学敏

作品数：2 被引量：8H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 7个电子电信
  • 2个机械工程
  • 1个化学工程
  • 1个金属学及工艺
  • 1个电气工程
  • 1个自动化与计算...
  • 1个一般工业技术

主题

  • 7个晶片
  • 7个化学腐蚀
  • 6个单晶
  • 6个单晶片
  • 6个碱性腐蚀
  • 6个光洁度
  • 5个特性分析
  • 5个抛光
  • 5个抛光片
  • 5个翘曲度
  • 5个面粗糙度
  • 5个化学机械抛光
  • 5个机械抛光
  • 4个电池
  • 4个形貌
  • 4个控制方法
  • 3个电子能
  • 3个电子能谱
  • 3个多结太阳电池
  • 3个一致性

机构

  • 7个中国电子科技...
  • 1个天津大学
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 3个国家高技术研...
  • 2个国家科技部专...
  • 1个国家自然科学...

传媒

  • 7个半导体技术
  • 6个电子工业专用...
  • 3个微纳电子技术
  • 2个天津科技
  • 2个电子工艺技术
  • 2个中国电子科学...
  • 1个节能技术
  • 1个电源技术
  • 1个材料导报
  • 1个压电与声光

地区

  • 6个天津市
  • 1个北京市
共 7 条 记 录，以下是 1-7
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吕菲
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 抛光片 化学腐蚀 单晶片 锗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘春香
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 单晶片 粗糙度 超薄 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宋晶
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：一致性 表面粗糙度 光散射 硅抛光片 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 锗 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
于妍
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 化学腐蚀 碱性腐蚀 单晶片 硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵秀玲
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：粗糙度 光洁度 化学腐蚀 单晶片 锗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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