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孙景兰

作品数:5 被引量:16H指数:2
供职机构:中国科学技术大学研究生院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

领域

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主题

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  • 15个SI
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  • 13个纳米
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  • 8个氮化硅
  • 8个氧化硅薄膜
  • 8个稳定性
  • 6个电池
  • 6个室温
  • 5个氮化硅薄膜

机构

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资助

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传媒

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地区

  • 15个北京市
  • 4个安徽省
  • 1个上海市
20 条 记 录,以下是 1-10
周洁
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:深能级 砷化镓 硅 DX中心 GAAS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
卢励吾
供职机构:北京大学物理学院
研究主题:深能级 分子束外延生长 能级 硅 砷化镓
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石万全
供职机构:中国科学院研究生院
研究主题:硅 离子注入 氮化硅 LPCVD 氮化硅薄膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
朱美芳
供职机构:中国科学技术大学研究生院
研究主题:氧化硅 热丝法 稳定性 SIO 非晶硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘渝珍
供职机构:中国科学院研究生院
研究主题:光致发光 快速退火 LPCVD RTA 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈培毅
供职机构:清华大学信息科学技术学院微电子学研究所
研究主题:SIGE 锗化硅 HBT 量子点 双极晶体管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴汲安
供职机构:中国科学院半导体研究所
研究主题:硅 电子结构 SI AL INITIO
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
许怀哲
供职机构:北京航空航天大学物理科学与核能工程学院
研究主题:H 超晶格 A-SI 半导体 穿透率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩一琴
供职机构:中国科学院研究生院
研究主题:多晶硅薄膜 微晶硅薄膜 热丝 热丝化学气相沉积 LPCVD
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
沈光地
供职机构:北京工业大学
研究主题:半导体激光器 垂直腔面发射激光器 发光二极管 红外探测器 MOCVD
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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