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马文霞

作品数:1 被引量:6H指数:1
供职机构:中国科学院固体物理研究所更多>>
相关领域:一般工业技术更多>>

领域

  • 3个一般工业技术
  • 2个电子电信

主题

  • 3个氮化
  • 3个氮化硅
  • 3个等离子体增强
  • 3个等离子体增强...
  • 3个折射率
  • 3个化学气相
  • 3个化学气相沉积
  • 3个PECVD
  • 3个表面形貌
  • 3个沉积速率
  • 2个调制
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  • 1个底片
  • 1个电子能
  • 1个电子迁移率
  • 1个调制掺杂
  • 1个异质结
  • 1个异质结材料
  • 1个英文
  • 1个应变层

机构

  • 3个中国科学院
  • 1个南京电子器件...

资助

  • 2个国家自然科学...
  • 1个中国科学院知...

传媒

  • 3个真空
  • 2个Journa...
  • 1个半导体技术
  • 1个物理学报
  • 1个电子器件
  • 1个固体电子学研...
  • 1个微纳电子技术
  • 1个第八届全国固...
  • 1个第六届全国分...
  • 1个第十二届全国...
  • 1个第五届全国分...

地区

  • 3个安徽省
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陈文锦
供职机构:中国科学院固体物理研究所
研究主题:沉积速率 表面形貌 PECVD 氮化硅 等离子体增强化学气相沉积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈家荣
供职机构:中国科学院固体物理研究所
研究主题:表面形貌 沉积速率 PECVD 氮化硅 等离子体增强化学气相沉积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邱凯
供职机构:中国科学院固体物理研究所
研究主题:分子束外延 二维电子气 MBE生长 MBE 调制掺杂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共1页<1>
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