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李静

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
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共 12 条 记 录，以下是 1-10
汝琼娜
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：砷化镓 半导体材料 碳 碳含量 半绝缘砷化镓
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李光平
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：砷化镓 硅 碳 半导体材料 光荧光谱
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何秀坤
供职机构：峨嵋半导体材料厂
研究主题：碳 硅 砷化镓 半导体材料 红外辐射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
董颜辉
供职机构：通化师范学院化学系
研究主题：HPLC法测定 HPLC法 阿魏酸 逍遥颗粒 GAAS表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孟大垒
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：ICP-AES 肝脏 发射光谱 猪油 中毒
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
楮连青
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：ICP-AES 肝脏 发射光谱 猪油 中毒
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王金钢
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：氧化还原反应 冷凝管 显微分析 电化学反应 测量不确定度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李光平
供职机构：天津电子材料研究所
研究主题：砷化镓 GAAS EL2 掺杂 LEC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
任殿胜
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：XPS XPS研究 砷化镓 GAAS 铝箔
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王奕
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：ICP-MS法 ICP-MS 氧化还原反应 痕量杂质 冷凝管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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