搜索到 篇“ 邻近效应校正 “的相关文章

相关作者

李艳秋
作品数：429被引量：329H指数：10
供职机构：北京理工大学
研究主题：掩模 极紫外光刻 光刻系统 光源 投影物镜
宋会英
作品数：26被引量：128H指数：7
供职机构：中国石油大学（华东）
研究主题：电子束光刻 邻近效应校正 MONTE 扫描隧道显微镜 二次电子
陈宝钦
作品数：198被引量：257H指数：9
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束曝光 电子束直写 抗蚀剂 电子束
马旭
作品数：90被引量：9H指数：2
供职机构：北京理工大学
研究主题：光刻系统 成像模型 光源 掩模 矢量
赵珉
作品数：31被引量：44H指数：4
供职机构：湛江师范学院信息科学与技术学院
研究主题：电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束抗蚀剂