国家科技重大专项(2009zx02308)
- 作品数：6 被引量：9H指数：2
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- 相关机构：河北工业大学天津理工大学更多>>
- 发文基金：国家科技重大专项国家自然科学基金国家教育部博士点基金更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>
- 一种复杂图像背景中残留液晶识别方法
- 2014年
- LCD液晶屏是对表面洁净度有严格要求的部件,基于数字图像处理的残留液晶识别方法能够定量、客观地评价表面的洁净度。针对复杂背景图像中残留液晶难以准确识别的问题,本文提出并实现了有效的图像处理流程和算法,包括分割、边缘连接、图像填充、去除多余边界以及噪声等操作。提出了一种边缘连接算子,在对图像进行分割后,将不连续的图像边界连接为闭合,为图像填充奠定基础。提出并实现了一个基于二叉分类方法的模式分类器,用于对污染物几何形状进行自动识别。实验表明,针对单一背景残留液晶的识别与分析方法能够精确获得残留液晶边缘,并且控制了噪声的干扰;针对复杂背景残留液晶识别与分析方法能够对背景存在明显差异的特定类型图像进行准确的处理。
- 黄妍妍高宝红张海涛康军广
- 关键词：图像处理模式识别液晶屏
- BDD电化学结合表面活性剂的新型清洗方法
- 2010年
- 提出了一种新型抛光后的清洗方法,采用掺硼金刚石膜作阳极的电化学方法制备出氧化液,用其去除表面有机污染物,同时配合使用非离子表面活性剂去除表面固体颗粒。用金刚石膜电化学制备出氧化液,克服了单纯电化学氧化生成的强氧化性羟基自由基不稳定和寿命短等缺点,实现氧化能力持久保持。表面活性剂能有效地去除表面颗粒,清洗后Si片上会有残留物,氧化液可以将残留物去除。通过实验对比发现,这种新颖的清洗方法在颗粒和有机物去除上有很好的清洗效果,能够满足微电子工艺的发展需求。
- 周强刘玉岭高宝红刘效岩
- 关键词：金刚石膜电极电化学氧化氧化液有机物
- BDD电极电化学氧化清洗工艺氧化性研究被引量：4
- 2009年
- 为了改进现有的RCA清洗法以及臭氧/过氧化氢湿式清洗技术,利用金刚石膜(BDD)电极的高级电化学氧化技术生成过氧化物氧化有机物,以实现简化清洗设备及节能环保。为研究金刚石膜电极的氧化能力,电解不同浓度的硫酸钾溶液,通过高锰酸钾滴定法进行氧化性的测量,研究原料浓度对生成过氧硫酸盐浓度的影响;通过添加KOH调节pH值,研究pH值对电化学制备过氧化物的影响,用该电化学氧化方法与RCA清洗法进行清洗效果对比。实验结果显示,金刚石膜电化学氧化能力可以通过阳极电解液浓度以及pH值的调整得到控制,清洗效果在Si片表面粗糙度方面明显优于传统的RCA清洗法,而且更加节能环保。
- 高宝红刘玉岭朱亚东刘效岩
- 关键词：金刚石膜电极电化学氧化氧化性
- 金刚石膜电化学对LCD上残留有机物清洗的研究
- 2009年
- 随着微电子技术的发展,对清洗技术的要求也越来越严格。LCD由于低功耗、高画质和轻巧等优势,已作为平板显示领域的主导技术。采用金刚石膜电化学的强氧化物质对液晶盒上的残留有机物进行清洗,通过实验得出较好的清洗的氧化浓度和清洗时间,通过显微镜观察,电化学清洗能够有效去除有机物污染,对比了一般清洗与电化学清洗效果,得出了更适合清洗残留有机物的方法。
- 陈婷刘玉岭魏恒梁蒲
- 关键词：电化学液晶显示器表面污染有机物
- 晶片CMP后表面纳米颗粒的去除研究被引量：5
- 2011年
- 对晶片化学机械抛光(CMP)后表面吸附的纳米颗粒去除进行了研究,分析了晶片表面吸附物的种类及吸附机理。由于晶片表面吸附的有机物多为大分子物质,它在晶片表面的吸附除了容易处理的物理吸附外,还会和晶片表面构成化学键,形成难以处理的化学吸附。对清洗过程中颗粒的去除有严重的影响,提出利用电化学清洗,结合表面活性剂和兆声波清洗的方法去除晶片表面的纳米颗粒。经金相显微镜观察和原子力显微镜检测,晶片表面纳米颗粒能得到很好地去除,效果明显优于单纯的兆声波清洗方法。
- 陈海涛檀柏梅刘玉岭牛新环刘金玉
- 关键词：化学机械抛光电化学兆声清洗
- 电化学方法去除Si片CMP后表面金属杂质的研究
- 2010年
- 论述了集成电路制备中Si衬底CMP过程中引入的金属杂质的危害,分析了目前CMP后清洗中金属杂质去除方法的现状和存在问题,通过对金属杂质在Si片表面的吸附进行理论分析,提出了用金刚石膜电化学清洗方法去除。该方法通过阴极对金属离子的吸附并放电还原,达到了去除微量金属杂质的目的,同时使难以去除的重金属杂质也得到了有效去除,减少了环境污染。
- 边娜檀柏梅刘玉岭牛新环刘金玉
- 关键词：化学机械抛光金属杂质电化学
