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国家自然科学基金(60176015)

作品数:11 被引量:30H指数:4
相关作者:史峥严晓浪陈志锦王国雄付萍更多>>
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领域

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  • 3个文化科学
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  • 1个政治法律

主题

  • 13个光刻
  • 11个电路
  • 11个集成电路
  • 11个光刻模拟
  • 10个光刻仿真
  • 9个光学邻近校正
  • 8个亚微米
  • 8个深亚微米
  • 8个微米
  • 8个离轴
  • 8个离轴照明
  • 8个超深亚微米
  • 7个掩模
  • 7个芯片
  • 6个电路版图
  • 6个电学
  • 6个电学特性
  • 5个移相掩模
  • 5个英文
  • 4个电压

机构

  • 11个浙江大学
  • 2个北京大学
  • 1个复旦大学
  • 1个福州大学
  • 1个鞍山钢铁学院
  • 1个鞍山科技大学
  • 1个电子科技大学
  • 1个杭州电子工业...
  • 1个东华理工大学
  • 1个杭州电子科技...
  • 1个华东地质学院
  • 1个浙江警官职业...
  • 1个专用集成电路...
  • 1个中国兵器工业...
  • 1个中国兵器工业...
  • 1个杭州市电力局

资助

  • 13个国家自然科学...
  • 6个国家高技术研...
  • 2个国家科技重大...
  • 2个浙江省科技计...
  • 2个中央高校基本...
  • 1个福建省自然科...
  • 1个国家科技型中...
  • 1个国家科技支撑...
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  • 1个浙江省新世纪...
  • 1个“九五”国家...
  • 1个电科院预研基...
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传媒

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  • 2个计算机工程与...
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  • 1个内蒙古师范大...
  • 1个科学通报
  • 1个电子与信息学...
  • 1个起重运输机械

地区

  • 11个浙江省
  • 1个江西省
  • 1个四川省
13 条 记 录,以下是 1-10
史峥
供职机构:浙江大学电气工程学院超大规模集成电路设计研究所
研究主题:光学邻近校正 集成电路 光刻 成品率 版图
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
严晓浪
供职机构:浙江大学电气工程学院
研究主题:集成电路 VLSI 低功耗 光学邻近校正 版图
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈志锦
供职机构:中国兵器工业第58研究所
研究主题:光学邻近校正 集成电路 光刻模拟 交流伺服系统 光刻仿真
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王国雄
供职机构:浙江大学
研究主题:光学邻近校正 光刻 集成电路 光刻模拟 光刻仿真
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
付萍
供职机构:东华理工大学信息工程学院信息工程系
研究主题:光学邻近校正 集成电路 OPC 光刻 水资源
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈晔
供职机构:浙江大学
研究主题:分辨率增强技术 光刻 硅表面 中外合作办学 光刻模拟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高根生
供职机构:浙江大学电气工程学院超大规模集成电路设计研究所
研究主题:可制造性设计 纳米级 分辨率增强技术 光刻模拟 光刻仿真
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李季
供职机构:浙江大学
研究主题:光刻模拟 分辨率增强技术 分辨率 离轴照明 废水处理
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
熊军
供职机构:杭州市电力局
研究主题:分布式电源 分布式发电 配电网 准入容量 配网
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
付萍
供职机构:浙江警官职业学院
研究主题:超深亚微米 IC 光学邻近效应 光刻 卷积核
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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