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国家科技重大专项(2009ZX02011-005A)

作品数：8 被引量：9H指数：1
相关作者：徐存良高文泉柳滨陈威陈波更多>>
相关机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所北京中电科电子装备有限公司更多>>
发文基金：国家科技重大专项更多>>
相关领域：电子电信更多>>

领域

  • 10个电子电信
  • 6个自动化与计算...
  • 2个建筑科学
  • 1个金属学及工艺
  • 1个机械工程
  • 1个电气工程

主题

  • 10个化学机械抛光
  • 10个机械抛光
  • 9个CMP
  • 8个抛光
  • 8个温度
  • 7个温度控制
  • 7个硅片
  • 6个抛光垫
  • 6个平坦化
  • 6个化学机械平坦...
  • 5个数据处理
  • 5个抛光机
  • 4个修整
  • 4个优化设计
  • 4个有限元
  • 4个有限元分析
  • 4个有限元模型
  • 4个气动
  • 4个气动控制
  • 4个气动控制系统

机构

  • 10个中国电子科技...
  • 2个电子工业部
  • 2个中华人民共和...
  • 2个中国电子科技...
  • 1个华中科技大学

资助

  • 10个国家科技重大...
  • 1个国家自然科学...
  • 1个中国博士后科...
  • 1个北京市教育委...
  • 1个中央高校基本...

传媒

  • 10个电子工业专用...
  • 2个半导体技术
  • 1个机械工程学报
  • 1个微细加工技术
  • 1个集成电路应用
  • 1个计算机测量与...
  • 1个微纳电子技术
共 10 条 记 录，以下是 1-10
徐存良
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械平坦化 CMP设备 RCA 湿法清洗
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
柳滨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 抛光液 半导体材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高文泉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP CMP设备 化学机械抛光 夹持 温度控制
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈波
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP CMP设备 大盘 温度 水压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈威
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 300MM硅片 有限元模型 有限元分析
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 CMP设备 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王伟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 IC 300MM硅片 SOLIDWORKS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭强生
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：粘片机 集成电路 视觉检测 发光二极管 伺服控制系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
丁彭刚
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：PID控制 多线切割机 同步控制 切割机 CMP
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王东辉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 氮化镓 半导体材料 碳化硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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