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国家高技术研究发展计划(2006AA843134)

作品数：3 被引量：21H指数：3
相关作者：刘明谢常青朱效立姜骥陈宝钦更多>>
相关机构：中国科学院微电子研究所中国工程物理研究院长春理工大学更多>>
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共 16 条 记 录，以下是 1-10
朱效立
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束直写 衍射效率 衍射光学元件 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢常青
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 X射线光刻 敏感膜 存储器 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘明
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张庆钊
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：启辉 原子层沉积 等离子体 刻蚀工艺 电极
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姜骥
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：光刻机 纳米压印光刻 纳米压印 螺孔 螺杆
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈宝钦
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束曝光 电子束直写 抗蚀剂 电子束
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
付强
供职机构：长春理工大学
研究主题：偏振 偏振特性 传输特性 偏振光 成像
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘兴华
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：有机场效应晶体管 电极 有机半导体材料 有机半导体 真空蒸镀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李兵
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：X射线光刻 掩模 干法刻蚀 深亚微米 X射线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵珉
供职机构：湛江师范学院信息科学与技术学院
研究主题：电子束光刻 电子束直写 电子束曝光 抗蚀剂 电子束抗蚀剂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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