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国家高技术研究发展计划(2006AA03z355)

作品数:4 被引量:25H指数:3
相关作者:胡松马平严伟陈旺富周绍林更多>>
相关机构:中国科学院中国科学院研究生院乐山师范学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学机械工程电子电信更多>>

领域

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主题

  • 8个叠栅条纹
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  • 8个掩模
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  • 8个条纹
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  • 7个调焦
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  • 6个矢量衍射
  • 6个矢量衍射理论
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机构

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  • 1个西藏自治区气...
  • 1个西藏自治区气...

资助

  • 9个国家高技术研...
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  • 3个成都市科技攻...
  • 3个中国科学院西...
  • 2个国家重点基础...
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传媒

  • 9个光电工程
  • 8个光学学报
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  • 7个微细加工技术
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  • 4个电子技术应用
  • 4个中国激光
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  • 2个压电与声光
  • 2个现代电子技术

地区

  • 7个四川省
  • 1个西藏
  • 1个广东省
9 条 记 录,以下是 1-9
严伟
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:生物芯片 光刻 工件台 纳米光刻 成像系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周绍林
供职机构:华南理工大学
研究主题:纳米光刻 条纹 光固化 光栅 成像系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马平
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:光刻机 掩模 工件台 样片 纳米光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈旺富
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:纳米光刻 条纹 图像探测器 双光栅 成像系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡松
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:光刻机 工件台 光刻 掩模 生物芯片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐小萍
供职机构:西藏自治区气候中心
研究主题:生物芯片 纳米光刻 掩模 光刻分辨力 光刻机
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨勇
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:纳米光刻 光刻机 投影光刻 光刻 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张幼麟
供职机构:乐山师范学院
研究主题:LABVIEW 51单片机 片内集成 单片机 ARM微处理器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蒋文波
供职机构:中国科学院光电技术研究所
研究主题:成像系统 位相型 光刻 纳米光刻 无掩模光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共1页<1>
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