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国家高技术研究发展计划(2004AA3Z1142)

作品数：2 被引量：1H指数：1
相关作者：马向阳杨德仁崔灿江慧华阙端麟更多>>
相关机构：浙江大学浙江理工大学更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划国家杰出青年科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

领域

  • 7个电子电信
  • 6个理学
  • 5个金属学及工艺
  • 4个动力工程及工...
  • 4个电气工程
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主题

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  • 3个氮化硅薄膜
  • 3个氮气
  • 3个氮气保护

机构

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  • 2个浙江理工大学
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资助

  • 7个国家高技术研...
  • 7个国家自然科学...
  • 5个国家杰出青年...
  • 5个教育部“新世...
  • 4个国家重点基础...
  • 4个教育部“优秀...
  • 4个浙江省自然科...
  • 4个长江学者和创...
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传媒

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  • 5个半导体技术
  • 5个物理学报
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  • 4个太阳能学报
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  • 4个人工晶体学报
  • 4个材料科学与工...
  • 4个材料科学与工...
  • 3个半导体情报
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  • 3个南京大学学报...
  • 3个浙江大学学报...
  • 3个材料导报
  • 3个发光学报
  • 3个半导体光电
  • 2个光电子．激光
  • 2个高等学校化学...
  • 2个物理
  • 2个激光与光电子...

地区

  • 7个浙江省
共 7 条 记 录，以下是 1-7
杨德仁
供职机构：浙江大学
研究主题：太阳电池 硅 硅片 欧姆接触电极 直拉硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马向阳
供职机构：浙江大学
研究主题：欧姆接触电极 直拉硅 直拉硅单晶 氧沉淀 电致发光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
阙端麟
供职机构：浙江大学
研究主题：硅单晶 直拉硅单晶 硅 氧沉淀 直拉硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田达晰
供职机构：浙江大学
研究主题：直拉硅单晶 硅单晶 直拉硅 氧沉淀 氩气
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
江慧华
供职机构：浙江大学
研究主题：直拉硅 掺硼 硅外延片 P 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李立本
供职机构：浙江大学
研究主题：硅单晶 直拉硅单晶 直拉硅 硅 氧沉淀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
崔灿
供职机构：浙江理工大学
研究主题：SUB 环保行业 四氯化锡 钙钛矿 反应釜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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