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国家科技重大专项(2008ZX02051-005)

作品数：3 被引量：8H指数：2
相关作者：谢常青朱效立刘世炳靳飞飞刘明更多>>
相关机构：中国科学院微电子研究所北京工业大学中国科学院更多>>
发文基金：国家科技重大专项国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信更多>>

领域

  • 10个电子电信
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  • 6个自动化与计算...
  • 6个理学
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  • 1个电气工程
  • 1个水利工程

主题

  • 10个透射
  • 10个透射光
  • 10个光栅
  • 9个透射光栅
  • 7个电子束光刻
  • 7个衍射
  • 7个衍射光学
  • 6个等离子体
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  • 6个掩模
  • 6个热力学
  • 6个热形变
  • 6个近地空间
  • 6个EUV
  • 6个X
  • 4个带隙
  • 4个单级
  • 4个氮化
  • 3个单模
  • 3个单片

机构

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  • 1个天津大学
  • 1个中国工程物理...
  • 1个中国科学院微...

资助

  • 10个国家科技重大...
  • 7个国家重点基础...
  • 6个国家高技术研...
  • 6个国家自然科学...
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  • 1个北京市教委科...
  • 1个“九五”国家...
  • 1个北京市教委科...
  • 1个北京市教委重...

传媒

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  • 7个光学学报
  • 6个微纳电子技术
  • 5个物理学报
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  • 5个中国光学学会...
  • 4个Journa...
  • 4个核技术
  • 4个光子学报
  • 3个光学精密工程
  • 3个强激光与粒子...
  • 2个光电子．激光
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  • 1个医用生物力学
  • 1个河北大学学报...
  • 1个量子电子学报
  • 1个安徽农学通报
  • 1个工程设计学报
  • 1个高等学校化学...
  • 1个农业工程学报

地区

  • 8个北京市
  • 1个甘肃省
共 10 条 记 录，以下是 1-10
朱效立
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 电子束直写 衍射效率 衍射光学元件 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢常青
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 X射线光刻 敏感膜 存储器 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
靳飞飞
供职机构：北京工业大学激光工程研究院
研究主题：衍射光学 电子束光刻 MM 光栅设计 自聚焦
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘明
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：存储器 电极 衬底 电子束光刻 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘世炳
供职机构：北京工业大学
研究主题：飞秒激光 准分子激光 激光制备 激光 微加工
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李海亮
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 衬底 衍射光栅 自支撑 大高宽比
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韦飞
供职机构：中国科学院空间科学与应用研究中心
研究主题：EUV 近地空间 热形变 热力学 透射光栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宋曦
供职机构：兰州大学物理科学与技术学院
研究主题：EUV 近地空间 热形变 热力学 透射光栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢二庆
供职机构：中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成重点实验室
研究主题：EUV 近地空间 热形变 热力学 透射光栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马杰
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：电子束光刻 X射线光刻 MM 衍射效率 透射光栅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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