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河北省自然科学基金(E2013202247)

作品数：35 被引量：115H指数：6
相关作者：刘玉岭牛新环王辰伟王仲杰周建伟更多>>
相关机构：河北工业大学河北联合大学中芯国际集成电路制造有限公司更多>>
发文基金：河北省自然科学基金河北省教育厅科研基金国家中长期科技发展规划重大专项更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺自动化与计算机技术交通运输工程更多>>

领域

  • 41个电子电信
  • 23个金属学及工艺
  • 21个自动化与计算...
  • 18个理学
  • 15个化学工程
  • 14个文化科学
  • 13个一般工业技术
  • 11个机械工程
  • 11个电气工程
  • 8个交通运输工程
  • 8个环境科学与工...
  • 7个经济管理
  • 5个建筑科学
  • 4个冶金工程
  • 4个医药卫生
  • 4个自然科学总论
  • 3个哲学宗教
  • 2个天文地球
  • 2个石油与天然气...
  • 2个动力工程及工...

主题

  • 38个CMP
  • 35个化学机械抛光
  • 35个机械抛光
  • 34个去除速率
  • 32个抛光液
  • 30个碱性抛光液
  • 28个粗糙度
  • 27个铜
  • 25个活性剂
  • 23个铜布线
  • 23个阻挡层
  • 23个磨料
  • 22个抛光
  • 22个离子
  • 21个碱性
  • 20个电路
  • 20个平坦化
  • 19个面粗糙度
  • 18个溶胶
  • 16个互连

机构

  • 41个河北工业大学
  • 2个河北工学院
  • 2个邯郸学院
  • 2个石家庄学院
  • 2个中国电子科技...
  • 1个南开大学
  • 1个天津铁道职业...
  • 1个天津大学
  • 1个河北科技大学
  • 1个天津理工大学
  • 1个中国电子科技...
  • 1个中国人民解放...
  • 1个电子部
  • 1个河北联合大学
  • 1个中国人民政治...
  • 1个专用集成电路...
  • 1个中芯国际集成...
  • 1个中国电子科技...
  • 1个天津电子材料...
  • 1个天津冶金职业...

资助

  • 41个河北省自然科...
  • 31个国家中长期科...
  • 28个河北省教育厅...
  • 24个国家自然科学...
  • 22个天津市自然科...
  • 21个国家科技重大...
  • 12个河北省高等学...
  • 10个国家教育部博...
  • 7个河北省科技计...
  • 5个天津市重大科...
  • 4个博士科研启动...
  • 4个河北省科技支...
  • 4个天津市科技攻...
  • 3个博士后科研启...
  • 3个国家级大学生...
  • 3个河北省教育厅...
  • 3个河北省教育厅...
  • 3个天津市重点学...
  • 2个国家高技术研...
  • 2个中国博士后科...

传媒

  • 35个微纳电子技术
  • 24个半导体技术
  • 15个河北工业大学...
  • 14个电镀与涂饰
  • 11个微电子学
  • 10个功能材料
  • 10个稀有金属
  • 7个电镀与精饰
  • 7个Journa...
  • 7个表面技术
  • 7个人工晶体学报
  • 6个天津科技
  • 6个电子设计工程
  • 6个第十四届全国...
  • 5个光电子．激光
  • 5个电子工艺技术
  • 5个硅酸盐学报
  • 5个粘接
  • 5个微细加工技术
  • 4个稀有金属材料...

地区

  • 32个天津市
  • 9个河北省
共 41 条 记 录，以下是 1-10
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
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牛新环
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周建伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 硅溶胶 抛光液 硅晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王仲杰
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 化学机械抛光 去除速率 表面粗糙度 RU
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫辰奇
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 化学机械抛光 化学机械平坦化 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
栾晓东
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 去除速率 碱性 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐继英
供职机构：天津冶金职业技术学院
研究主题：化学机械抛光 磨料 黏度 现场总线 监控画面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵亚东
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 碱性抛光液 抛光速率 掩膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
洪姣
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP BTA 螯合剂 接触角 苯并三氮唑
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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