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天津市自然科学基金(10JCZDJC15500)

作品数：4 被引量：22H指数：3
相关作者：刘玉岭邢少川田雨刘效岩牛新环更多>>
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领域

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  • 7个金属学及工艺
  • 6个化学工程
  • 6个一般工业技术
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  • 5个理学
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  • 3个文化科学
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  • 2个建筑科学
  • 2个交通运输工程
  • 1个经济管理
  • 1个生物学
  • 1个机械工程
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  • 1个医药卫生

主题

  • 13个磨料
  • 13个化学机械抛光
  • 13个机械抛光
  • 13个CMP
  • 10个去除速率
  • 9个速率
  • 9个抛光
  • 9个抛光速率
  • 9个抛光液
  • 9个纳米
  • 9个互连
  • 8个电路
  • 8个铜互连
  • 8个碱性抛光液
  • 7个铜互连线
  • 6个低压
  • 6个碟形
  • 5个低K材料
  • 5个低K介质
  • 5个有机碱

机构

  • 13个河北工业大学
  • 1个河北工学院
  • 1个新疆师范大学
  • 1个中国电子科技...
  • 1个中国人民解放...
  • 1个中国人民政治...
  • 1个北京七星华创...

资助

  • 13个天津市自然科...
  • 13个国家科技重大...
  • 10个河北省自然科...
  • 8个国家中长期科...
  • 7个河北省教育厅...
  • 6个国家自然科学...
  • 4个国家教育部博...
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  • 1个国家级大学生...

传媒

  • 13个半导体技术
  • 10个微纳电子技术
  • 9个功能材料
  • 5个河北工业大学...
  • 4个稀有金属材料...
  • 4个稀有金属
  • 3个天津科技
  • 3个Journa...
  • 3个电镀与涂饰
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  • 3个河北科技大学...
  • 3个微电子学
  • 3个第十三届全国...
  • 3个第十四届全国...
  • 2个润滑与密封
  • 2个中国表面工程
  • 2个微细加工技术
  • 2个清洗世界
  • 2个纳米技术与精...
  • 2个电子设计工程

地区

  • 11个天津市
  • 1个北京市
  • 1个新疆
共 13 条 记 录，以下是 1-10
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
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刘效岩
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田雨
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 粗糙度 表面粗糙度 磨料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
牛新环
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 碱性抛光液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邢少川
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 粗糙度 表面粗糙度 磨料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王胜利
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光液 螯合剂 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
于江勇
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 混合磨料 化学机械抛光 LED 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马迎姿
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：粗糙度 表面粗糙度 CMP 化学机械抛光 磨料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
夏显召
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 化学机械抛光 混合磨料 LED 蓝宝石衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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