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联芯集成电路制造(厦门)有限公司
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半导体元件的制作方法
本发明公开一种半导体元件的制作方法,包含:提供一基底,在该基底上形成一浮动栅极材料层,进行一平坦化步骤,降低该浮动栅极材料层的一厚度,在该平坦化步骤进行后,对该浮动栅极材料层进行一离子掺杂步骤,以及进行一蚀刻步骤,移除部...
邱云松
邵红旭
孔德锦
欧阳锦坚
谈文毅
文献传递
半导体存储装置
本发明公开一种半导体存储装置,其包括基底、浮置栅极、层间介电层、互连结构、蚀刻停止层、导电结构以及开口。浮置栅极设置于基底上。层间介电层设置于浮置栅极上。互连结构设置于层间介电层中。蚀刻停止层设置于层间介电层上。导电结构...
颜榕峻
王建智
杨光
吕嘉伟
袁林山
谈文毅
化学机械抛光机台
本实用新型公开一种化学机械抛光机台,用于在线检测抛光垫下方气泡,该化学机械抛光机台包括:基座,用于粘贴一抛光垫;调节盘,用于研磨抛光垫,所述调节盘耦合一垫高度感应装置,以监测调节盘的高度变化,当调节盘的高度变化超过一预定...
林士杰
谈文毅
文献传递
半导体元件的测试键结构
本发明公开一种半导体元件的测试键结构,包括一基底,该基底包括一第一区、一第二区、一第三区以及一第四区。一第一隔离结构设置在该基底的该第二区中。一第二隔离结构设置在该基底的该第四区中。一第一栅极结构包括一第一线宽并且设置在...
周湘湘
王翔
何荣
顾海龙
黄清俊
谈文毅
监测结构以及其制作方法
本发明公开一种监测结构以及其制作方法,其中该监测结构包括基底、多个临界尺寸监测图案、多个电阻监测图案、第一虚置栅极结构以及第二虚置栅极结构。基底具有第一区与第二区。临界尺寸监测图案设置在基底的第一区上,而电阻监测图案设置...
周湘湘
王翔
何荣
顾海龙
黃清俊
谈文毅
文献传递
电容器结构的制作方法
本发明公开一种电容器结构的制作方法,包括下列步骤,在基底上形成第一电容器。第一电容器包括第一导电层的第一导电图案与第二导电图案以及第一介电层于水平方向上设置于第一导电图案与第二导电图案之间。在形成第一电容器之前,在基底上...
张维峻
黄汉民
张幼弟
谈文毅
文献传递
光罩热膨胀校正方法
光罩热膨胀校正方法,包括对一组晶圆执行曝光程序并生成配方,执行数据挖掘及数据解析以生成多个迭置参数,由该多个迭置参数取出多个预定参数,对每一预定参数执行线性回归,及生成该每一预定参数的决定系数。
任茂华
白源吉
谈文毅
高密度等离子体化学气相沉积制程形成氧化硅层的方法
本发明公开一种高密度等离子体化学气相沉积(HDP‑CVD)制程形成氧化硅层的方法,包含以下步骤。首先进行装载步骤,将半导体基底置于等离子体反应室内的承载台上,接着进行预热步骤,包含通入预热气体至等离子体反应室。然后,进行...
林艳兵
谈文毅
文献传递
曝光机台内的冷却系统及其运作方法
本发明公开一种曝光机台内的冷却系统及其运作方法,其中曝光机台内的冷却系统的运作方法包含提供一曝光机台,用于进行一半导体的曝光制作工艺,提供至少一储水槽,该储水槽内装有冷却水,用于对该曝光机台的部分元件进行冷却,提供一进水...
周宜斌
陈俊秀
谈文毅
侦测致动器动作异常的方法
本发明提出了一种侦测致动器动作异常的方法,包含提供一致动器,其在一段距离之间做往复移动、提供一传感器,其与该致动器连接并侦测该致动器的电压,该电压随着该致动器在该段距离之间位置的不同而改变、以及提供一系统,其收集该传感器...
张晓斌
林士杰
邓清文
黄国良
谈文毅
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