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武汉大学物理科学与技术学院加速器实验室

作品数:41 被引量:42H指数:4
相关作者:范湘军任克飞杨世柏宋搏彭国良更多>>
相关机构:北京大学物理学院岭南师范学院物理科学与技术学院华南理工大学机械与汽车工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家科技重大专项更多>>
相关领域:核科学技术金属学及工艺理学一般工业技术更多>>

文献类型

  • 22篇会议论文
  • 19篇期刊文章

领域

  • 13篇核科学技术
  • 10篇金属学及工艺
  • 9篇理学
  • 6篇一般工业技术
  • 4篇电子电信
  • 1篇电气工程
  • 1篇文化科学

主题

  • 17篇离子注入
  • 15篇加速器
  • 10篇注入机
  • 10篇离子注入机
  • 9篇透射电镜
  • 8篇离子
  • 7篇离子源
  • 6篇电子显微镜
  • 6篇涂层
  • 6篇中频磁控溅射
  • 6篇显微镜
  • 6篇磁控
  • 6篇磁控溅射
  • 5篇电镜
  • 5篇射电
  • 5篇离子镀
  • 5篇辐照损伤
  • 4篇低能
  • 4篇原位透射电镜
  • 3篇导体

机构

  • 41篇武汉大学
  • 5篇北京科技大学
  • 4篇中国科学院金...
  • 3篇北京大学
  • 3篇广州铁路职业...
  • 2篇华南理工大学
  • 2篇中国核动力研...
  • 2篇岭南师范学院
  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国矿业大学...
  • 1篇中国科学院上...
  • 1篇苏州热工研究...

作者

  • 24篇付德君
  • 19篇郭立平
  • 19篇刘传胜
  • 11篇黎明
  • 7篇何俊
  • 7篇田灿鑫
  • 7篇范湘军
  • 6篇杨兵
  • 6篇周霖
  • 6篇王泽松
  • 5篇杨铮
  • 5篇欧阳中亮
  • 4篇邹长伟
  • 4篇蒋昌忠
  • 4篇靳硕学
  • 4篇叶明生
  • 3篇李助军
  • 3篇黄志宏
  • 3篇刘怡飞
  • 3篇宋搏

传媒

  • 8篇核技术
  • 4篇粉末冶金材料...
  • 2篇原子能科学技...
  • 2篇中国表面工程
  • 1篇物理学报
  • 1篇表面技术
  • 1篇电子显微学报
  • 1篇2008年全...
  • 1篇2010全国...
  • 1篇第十二届反应...
  • 1篇第五届(20...
  • 1篇全国第十二届...
  • 1篇2012全国...
  • 1篇第五届反应堆...
  • 1篇第五届反应堆...

年份

  • 1篇2021
  • 1篇2018
  • 2篇2017
  • 1篇2016
  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 13篇2010
  • 4篇2009
  • 10篇2008
  • 3篇2007
  • 3篇2006
41 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
加速器联机装置运行状况
武汉大学加速器联机系统于2008年初步建成,200kV离子注入机至透射电镜束线进行了运行调试,开展了气体离子注入单晶Si、GaAs、Ag纳米晶和超临界反应堆材料(C276和6XN)的原位结构研究。结果表明,样品在注入至一...
刘传胜黎明何俊杨铮周霖王泽松郭立平蒋昌忠杨世柏刘家瑞J.C.Lee付德君范湘军
关键词:加速器离子注入机电子显微镜
文献传递
中能高浓度氦离子注入对钨微观结构的影响被引量:2
2016年
采用15 keV,剂量1×10^(17)/cm^2,温度为600?C氦离子注入钨,分别以块体钨研究氦离子对钨的表面损伤;以超薄的钨透射电镜样品直接注入氦离子,研究该条件下钨的微观结构变化,以了解氦离子与钨的相互作用过程;采用扫描电子显微镜、聚焦离子束扫描显微镜、透射电子显微镜、高分辨透射电子显微镜等分析手段研究氦离子注入对钨表面显微结构的影响及氦泡在钨微观结构演化中的作用.
郭洪燕夏敏燕青芝郭立平陈济红葛昌纯
关键词:显微结构
离子源辅助电弧离子镀制备MoSx自润滑涂层被引量:1
2018年
以Ar为输送气体,H_2S为S源,纯金属Mo为Mo源,采用中空阴极弧光离子源结合电弧离子镀系统,在单晶Si(100)和硬质合金衬底上制备MoSx自润滑涂层,系统研究H_2S流量对MoSx自润滑涂层结构及性能的影响,为电弧离子镀技术制备MoSx自润滑涂层积累实验数据。结果表明,H_2S流量对MoSx自润滑涂层的晶体结构、硬度及摩擦因数具有明显影响。随H_2S流量升高,MoSx自润滑涂层中Mo晶粒尺寸逐渐减小,没有明显的硫化物结晶相,MoSx涂层硬度逐渐减小,摩擦因数也逐渐减小,且均小于0.35(对磨材料硬质合金)。H_2S可以作为S源通过中空阴极离子源离化作用为MoSx自润滑涂层的制备提供S元素;电弧离子镀制备出的MoSx自润滑涂层为金属Mo纳米晶粒与非晶MoS、MoS_2组成的纳米复合结构。
李助军刘怡飞田灿鑫杨兵付德君苏峰华
关键词:电弧离子镀力学性能
离子注入制备Si基稀磁半导体研究
用200Kv Mn离子注入p型Si(001)单晶,在1×1015~5×1016 Mn+/cm2注入剂量范围内都观测到磁滞回线,表明样品有铁磁性存在。随着注入剂量的增加,饱和磁化强度有增强的趋势,退火后磁化强度较退火前有较...
欧阳中亮陈海英C. X.Liu郭立平黎明叶舟施训艾志伟彭挺付德君杜红林
关键词:稀磁半导体离子注入磁化强度退火处理退火温度
文献传递
加速器联机装置运行状况
武汉大学加速器联机系统于2008年初步建成,200KV离子注入机至透射电镜束线进行了运行调试,开展了气体离子注入单晶SI、GAAS、AG纳米晶和超临界反应堆材料(C276和6XN)的原位结构研究。结果表明,样品在注入至一...
文献传递网络资源链接
离子注入制备Si基稀磁半导体研究
用200Kv Mn离子注入p型Si(001)单晶,在1×1015~5×1016Mn+/cm2注入剂量范围内都观测到磁滞回线,表明样品有铁磁性存在。随着注入剂量的增加,饱和磁化强度有增强的趋势,退火后磁化强度较退火前有较大...
欧阳中亮郭立平黎明叶舟施训艾志伟彭挺付德君杜红林陈海英C.X.Liu
关键词:稀磁半导体离子注入退火
文献传递
用于发动机活塞环表面涂层的CrN薄膜被引量:6
2010年
设计了一套电子源辅助中频孪生非平衡磁控溅射装置,在单晶硅、高速钢、硬质合金衬底上制备了CrN,研究了气体流量、衬底偏压、溅射功率对薄膜结构和性能的影响。X射线衍射表明,在N2/(N2+Ar)比例低于60%时,CrN薄膜呈明显的(200)结构,当N2/(N2+Ar)高于60%时,出现含Cr2N的多晶结构。沉积速率在8.5~12.5μm/h之间,显微硬度为10~18GPa。衬底偏压对沉积速率、薄膜结构和显微硬度都有重要影响。在较低偏压下得到的薄膜以CrN(200)为主;在较高偏压下出现(200)和(111)相。AFM和SEM测试表明,在较低偏压下沉积的样品呈纤维状微结构,在Vb>25V时,样品呈现柱状结构。CrN涂层的沉积速率和力学性能基本达到了发动机活塞环表面涂层的要求。
陈涛王泽松周霖邓建伟田灿鑫何俊刘传胜付德君
关键词:CRN中频磁控溅射活塞环
离子源增强电弧离子镀活塞环表面CrN涂层的制备被引量:4
2017年
为了寻求发动机核心部件活塞环上电镀硬铬的替代技术,采用自行设计的离子源增强阴极电弧离子镀系统,在W18Cr4V高速钢试块上制备了不同厚度的CrN涂层,用XRD、SEM分析涂层的晶体结构、表面形貌和厚度;利用显微硬度计和球盘式摩擦仪分析了涂层厚度对力学性能的影响。结果表明:随着厚度的增加,CrN涂层结晶结构没有明显变化,2.5μm厚CrN涂层硬度达1 900 HV0.05,最低摩擦因数0.6,最低磨损速率2.664×10^(-6) mm^3/N·m。对CrN涂层和电镀硬铬ASL817钢质活塞环进行珩磨测试,在珩磨2 400次之后,CrN涂层钢质活塞环出现较大孔洞(50μm),但没有涂层脱落,具有良好的附着力,工作间隙变化不大;电镀硬铬活塞环涂层磨损较CrN涂层严重,工作间隙开始变大;珩磨12 000次后电镀硬铬活塞环工作间隙达到允许最大值,CrN涂层活塞环依保持正常工作间隙,耐磨性更好。
田灿鑫刘怡飞李助军邹伟全杨兵付德君
关键词:CRN涂层珩磨
加速器联机装置运行状况
武汉大学加速器联机系统于2008年初步建成,200kV离子注入机至透射电镜束线进行了运行调试,开展了气体离子注入单晶Si、GaAs、Ag纳米晶和超临界反应堆材料(C276和6XN)的原位结构研究。结果表明,样品在注入至一...
刘传胜刘家瑞J.C.Lee付德君范湘军黎明何俊杨铮周霖王泽松郭立平蒋昌忠杨世柏
关键词:加速器离子注入机电子显微镜
H-800透射电镜的修复和与离子注入机及串列加速器联机被引量:2
2008年
为建立一套离子注入机和串列加速器-电镜联机装置,对停止运行多年的H-800透射电镜进行了修复,并通过适当改造和防震措施,实现了与离子注入机和串列加速器的联机,可以在离子注入现场原位研究材料微结构的演化过程,为在我国深入开展离子束与固体相互作用的基础和应用研究提供一个强有力的研究手段。本文详细介绍了一台H-800型透射电镜的修复过程和联机技术,及应用该联机电镜所获得的初步实验结果。
郭立平何俊余益飞杨世柏刘传胜叶明生范湘军付德君
关键词:离子注入
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