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佳能安内华股份有限公司

作品数：452 被引量：0H指数：0
相关机构：佳能株式会社株式会社日立国际电气东京毅力科创株式会社更多>>
相关领域：电子电信文化科学金属学及工艺一般工业技术更多>>

合作机构

机构类别

  • 9个企业机构
  • 1个教育机构
  • 1个科研机构

领域

  • 11个化学工程
  • 11个金属学及工艺
  • 10个经济管理
  • 10个电子电信
  • 10个电气工程
  • 10个自动化与计算...
  • 10个医药卫生
  • 10个文化科学
  • 9个一般工业技术
  • 9个理学
  • 8个矿业工程
  • 8个机械工程
  • 8个建筑科学
  • 8个轻工技术与工...
  • 8个交通运输工程
  • 8个环境科学与工...
  • 7个石油与天然气...
  • 7个动力工程及工...
  • 6个天文地球
  • 6个农业科学

主题

  • 11个等离子体
  • 11个电池
  • 11个电极
  • 10个单晶
  • 10个氮化
  • 10个导电性
  • 10个电解质
  • 9个带电
  • 9个导体
  • 9个等离子
  • 9个等离子体处理
  • 9个底面
  • 8个待机
  • 8个导热性
  • 8个阳离子
  • 7个单晶硅
  • 7个单质
  • 7个氮原子
  • 7个弹簧
  • 7个低介电常数

资助

  • 1个上海市青年科...
  • 1个中国航空科学...

传媒

  • 3个表面技术
  • 1个国际商业技术
  • 1个大电机技术
  • 1个中国电梯
  • 1个工程热物理学...
  • 1个机械工程学报
  • 1个水力发电
  • 1个工程塑料应用
  • 1个压力容器
  • 1个中国机械工程
  • 1个东华大学学报...
  • 1个印染
  • 1个西北水电
  • 1个通讯世界
  • 1个中国生物医学...
  • 1个生物工程学报
  • 1个电子知识产权
  • 1个中国高教研究
  • 1个高科技纤维与...
  • 1个红水河
共 11 条 记 录，以下是 1-10
佳能株式会社
研究主题：图像 控制方法 摄像设备 存储介质 调色剂
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独立行政法人产业技术总合研究所
研究主题：碳纳米管 催化剂 制造装置 基板 流体
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
东京毅力科创株式会社
研究主题：基板 等离子体 等离子体处理 蚀刻 晶片
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
国立大学法人东北大学
研究主题：基板 半导体装置 合金 绝缘膜 金属
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
株式会社爱发科
研究主题：基板 成膜 溅射 真空 真空处理装置
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
株式会社日立国际电气
研究主题：衬底 半导体器件 半导体装置 基板 记录介质
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
索尼株式会社
研究主题：图像 记录介质 显示装置 信息处理方法 图像数据
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
松下电器产业株式会社
研究主题：电极 图像 基板 显示装置 控制装置
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
大金工业株式会社
研究主题：制冷剂 热交换器 空调机 空调装置 压缩机
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
株式会社东芝
研究主题：图像 半导体装置 电极 半导体 半导体器件
发表作品相关人物相关机构所获资助研究领域
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