崔虎
- 作品数：10 被引量：20H指数：3
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- 相关领域：理学电子电信化学工程更多>>
- 硝酸氧化淀粉制备草酸动力学研究被引量：2
- 2008年
- 探讨利用硝酸与淀粉在酸性及催化剂与助催化剂存在条件下合成草酸的反应机理,提出了在酸性条件下由淀粉水解成葡萄糖,葡萄糖进一步被硝酸氧化成草酸的宏观动力学模型。该过程分为2步:淀粉水解过程为表观一级反应,动力学方程为CA=CA0exp(-k1t);葡萄糖氧化过程通过稳态法处理后,动力学方程为CE=CB0(1-e-k2t)。通过实验计算出其中参数k1=0.082min-1;k2=0.0050min-1。研究结果为报废液体推进剂红烟硝酸的再利用提供了理论与技术支持。
- 贾瑛王煊军崔虎吕晓猛
- 关键词：硝酸淀粉草酸反应机理动力学
- 气体流量比对反应溅射Si_3N_4薄膜的影响被引量：2
- 2006年
- 利用射频磁控反应溅射法,以高纯S i为靶材,高纯N2气为反应气体,在S i衬底上制备出了S i3N4薄膜,研究了气体流量比对薄膜质量的影响。结果表明,薄膜的沉积速率主要与气体的流量比有关,随着气体流量比的增加,沉积速率下降,靶面的溅射由金属模式过渡到氮化物模式;薄膜中N/S i的原子比增加;红外吸收谱的S i-N键的振动峰向标准峰逼近。
- 宋文燕崔虎
- 关键词：磁控反应溅射
- 蓝宝石衬底上制备氮化硅薄膜的研究
- 2005年
- 采用射频磁控反应溅射法在蓝宝石和硅衬底上制备出Si3N4薄膜。利用XPS和FTIR分析了所制备薄膜的成分和结构,讨论了工艺参数对沉积速率的影响。结果表明,Si3N4薄膜的沉积速率随溅射气压的增大出现先增后减的趋势,衬底温度对沉积速率没有明显的影响。溅射气压的降低、衬底温度的提高将有利于获得高质量的Si3N4薄膜。
- 宋文燕刘正堂崔虎李强赵铁成
- 关键词：磁控反应溅射蓝宝石氮化硅薄膜沉积速率
- 射频磁控溅射镀膜过程中离子输运和溅射行为的模拟计算
- 本论文对射频溅射中入射离子的产生和输运、离子对靶材的溅射、溅射原子的输运过程进行了综合考虑,根据射频辉光放电的阴极壳层理论、粒子的输运理论、离子对靶材的溅射理论,利用蒙特卡罗法建立模型,自行编写了SFD(Simulate...
- 崔虎
- 关键词：射频磁控溅射等离子体计算机模拟鞘层
- 文献传递
- 环境气氛对射频溅射镀膜的影响被引量：1
- 2006年
- 综合考虑宏观条件对射频溅射镀膜过程的影响,采用等离子鞘层理论、理想气体理论、蒙特卡罗法,模拟在真空气压、气体流量、电压、温度等等参数综合作用后离子的能量、方向、分布等。相应实验验证结果与模拟结果较为一致,因此,可以认为目前的结论足以作为进一步模拟的条件。
- 崔虎刘正堂宋文燕孙金池李阳平
- 关键词：射频溅射等离子体鞘层
- Cu/Ag导电薄膜与高阻CdZnTe的接触性能研究被引量：1
- 2005年
- 采用射频磁控溅射法在高阻Cd0.9Zn0.1Te上制备了Cu/Ag导电薄膜,通过测量I-V曲线来评价接触性能。讨论了溅射功率和衬底温度对接触性能的影响,结果表明在两种不同功率下制备的薄膜不经过热处理已具有良好的欧姆接触性能,随着衬底温度的升高欧姆接触性能有所下降。通过对衬底的表面处理降低了表面漏电流。对试样进行退火处理使接触性能有所改善,退火温度在300℃时的接触性能要好于420℃。利用红外透过率来验证了退火温度范围及所选择加热衬底温度对高阻Cd0.9Zn0.1Te衬底没有影响。
- 孙金池刘正堂张兴刚崔虎李阳平
- 关键词：磁控溅射
- 蓝宝石和硅衬底上氮化硅薄膜的制备和性能研究被引量：1
- 2006年
- 采用射频磁控反应溅射法,以高纯Si为靶材,高纯N2气为反应气体,在蓝宝石和硅衬底上制备了氮化硅薄膜。并对Si3N4薄膜的沉积速率、成分、结构及红外光学性能等进行了研究。实验结果表明,沉积薄膜中Si和N的比接近3∶4,形成了Si3N4化合物,呈非晶态结构。制备的Si3N4薄膜的硬度明显高于蓝宝石衬底的硬度,且与蓝宝石衬底结合牢固,可提供良好的保护性能。
- 宋文燕崔虎苏勋家刘正堂
- 关键词：磁控反应溅射蓝宝石氮化硅薄膜
- 蓝宝石衬底上SiO_2薄膜的制备与光学性能被引量：4
- 2004年
- 以硅单晶为靶材 ,高纯的Ar和O2 气分别为溅射气体和反应气体 ,采用射频磁控反应溅射法 ,在蓝宝石衬底上制备了SiO2 薄膜 ,溅射的工艺参数范围是 :射频功率为 5 0～ 1 0 0W ,样品托背面温度为 2 5～ 40 0℃ ,沉积速率为 4～ 6nm/min。对影响薄膜质量的工艺参数进行了分析 ,探索出使蓝宝石镀膜后的红外透过率有最大幅度提高的最佳工艺条件。结果表明 ,所制备的SiO2 薄膜与蓝宝石衬底结合牢固 ;在 3～ 5 μm波段对蓝宝石衬底有明显的增透作用。与其它镀膜技术相比 ,射频磁控反应溅射法可以在较低的温度下制备出SiO2 薄膜。
- 冯丽萍刘正堂孙金池崔虎
- 关键词：二氧化硅薄膜蓝宝石磁控反应溅射
- 影响蓝宝石高温强度的因素探讨被引量：5
- 2006年
- 蓝宝石优秀的光学和力学性能使得它在红外光学领域获得广泛应用,但是,其高温强度的急剧降低,限制了它的热震抗力的发挥。所以改善蓝宝石的高温强度已经成为目前该领域的研究热点之一。本文介绍蓝宝石高温强度降低的机制以及影响因素,并对未来的工作提出展望。
- 宋文燕崔虎刘正堂
- 关键词：蓝宝石高温强度影响因素
- 提高蓝宝石高温强度和红外透过率的镀膜法研究被引量：3
- 2006年
- 采用射频磁控反应溅射法,以高纯Si为靶材,高纯O2和N2气为反应气体,在蓝宝石衬底上制备了氧化硅和氮化硅薄膜。讨论了N2气流量、射频功率、溅射气压和靶基距等工艺参数对Si3N4薄膜沉积速率的影响规律。结果表明:随N2气流量的增加,沉积速率先降低,最后趋于稳定;随射频功率增加,沉积速率增加;随溅射气压和靶基距增加,沉积速率先增后减。同时,高温强度试验和FTIR测试结果表明:在800℃时,镀膜后蓝宝石的弯曲强度比镀膜前提高了50.2%;平均透过率净增加8%以上,达到了很好的增透保护效果。
- 宋文燕崔虎刘正堂冯丽萍
- 关键词：蓝宝石氮化硅高温强度透过率镀膜
