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张至树

作品数：12 被引量：2H指数：1
供职机构：北京四方继保自动化股份有限公司更多>>
相关领域：电子电信理学化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 9篇专利
  • 3篇期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇化学工程

主题

  • 4篇溅射
  • 4篇超声波
  • 4篇超声波辅助
  • 4篇衬底
  • 4篇磁控
  • 4篇磁控溅射
  • 2篇电池
  • 2篇电阻率
  • 2篇镀膜
  • 2篇真空设备
  • 2篇烧结炉
  • 2篇锁住
  • 2篇太阳能电池
  • 2篇专用夹具
  • 2篇温箱
  • 2篇硫脲
  • 2篇化学计量
  • 2篇缓冲剂
  • 2篇机械机构
  • 2篇夹具

机构

  • 12篇北京四方继保...

作者

  • 12篇张至树
  • 12篇余新平
  • 12篇张宁
  • 8篇张涛
  • 6篇徐刚
  • 5篇刘沅东
  • 3篇汤清琼
  • 2篇徐瑞芳
  • 1篇张森
  • 1篇卓胜

传媒

  • 2篇材料保护
  • 1篇真空

年份

  • 2篇2016
  • 2篇2015
  • 4篇2014
  • 3篇2013
  • 1篇2012
共 12 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种非真空法制备CIGS薄膜的方法
一种非真空法制备CIGS薄膜的方法，包括以下步骤：（1）配粉：将高纯硒化亚铜（Cu<Sub>2</Sub>Se）、硒化铟（In<Sub>2</Sub>Se<Sub>3</Sub>）、硒化镓（Ga<Sub>2</Sub>S...
张宁张涛余新平张至树徐刚
文献传递
氧掺杂对磁控溅射ZAO薄膜性能的影响
2014年
通过磁控溅射氧化铝锌陶瓷靶材的方法在玻璃基片上制备ZAO薄膜,研究了不同氧掺杂量对于ZAO膜电学及光学性能的影响,使用X射线衍射仪衍射分析了薄膜相结构,使用四探针方阻仪测试薄膜的方阻,采用紫外可见分光光度计测试薄膜透过率。结果表明:在通入较低氧分量时对ZAO薄膜结晶性能及光电性能没有太大的影响,但随着氧分量的增加ZAO薄膜性能急剧下降。
刘沅东张宁余新平张至树汤清琼
关键词：磁控溅射ZAO薄膜氧含量
一种烧结炉的装脱模装置及装脱模方法
一种烧结炉的装脱模装置由升降杆、升降丝杠、升降杆固定板、升降机构固定杆、涡轮、手轮、升降机构固定梁、模具承压架、阳模托盘、阳模托盘固定梁及脚轮组成。通过旋转手轮带动涡轮、升降丝杠转动，使得升降杆、升降杆固定板、阳模托盘及...
余新平徐瑞芳张宁张至树张涛徐刚
文献传递
一种非真空法制备CIGS薄膜的方法
一种非真空法制备CIGS薄膜的方法，包括以下步骤：（1）配粉：将高纯硒化亚铜（Cu<Sub>2</Sub>Se）、硒化铟（In<Sub>2</Sub>Se<Sub>3</Sub>）、硒化镓（Ga<Sub>2</Sub>S...
张宁张涛余新平张至树徐刚
文献传递
一种提高磁控溅射平面靶材利用率的方法及装置
本发明公开了一种用于提高磁控溅射平面靶材利用率的方法及装置。本申请采用靶材固定、阴极移动的设计。将绑定在背板上的平面靶材用压靶框固定在阴极背板上，阴极背板固定有靶材的一侧置于真空腔室内。排满磁铁的磁轭为磁控溅射提供稳定的...
张宁余新平张森卓胜张至树
文献传递
一种采用化学水浴法制备硫化镉薄膜的方法
本发明公开了一种采用化学水浴法制备硫化镉薄膜的方法，包括以下步骤：（1）清洗衬底；（2）安装衬底，衬底和夹具共同构成反应容器；（3）、配置溶液：将镉盐、氨水、缓冲剂、硫脲、去离子水按一定比例混合制成反应溶液，然后兑入反应...
张宁张涛张至树余新平刘沅东
文献传递
一种化学水浴沉积硫化镉薄膜的方法及装置
本发明公开了一种化学水浴沉积硫化镉薄膜的方法及装置，所述方法包括以下步骤：（1）清洗衬底并吹干；（2）安装衬底；（3）预热衬底；（4）配置溶液；（5）反应沉积；（6）后续处理：将镀膜衬底用去离子水冲洗，然后吹干或烘干。所...
张宁张涛余新平张至树徐刚
文献传递
一种采用化学水浴法制备硫化镉薄膜的方法
本发明公开了一种采用化学水浴法制备硫化镉薄膜的方法，包括以下步骤：（1）清洗衬底；（2）安装衬底，衬底和夹具共同构成反应容器；（3）、配置溶液：将镉盐、氨水、缓冲剂、硫脲、去离子水按一定比例混合制成反应溶液，然后兑入反应...
张宁张涛张至树余新平刘沅东
文献传递
一种化学水浴沉积硫化镉薄膜的方法及装置
本发明公开了一种化学水浴沉积硫化镉薄膜的方法及装置，所述方法包括以下步骤：（1）清洗衬底并吹干；（2）安装衬底；（3）预热衬底；（4）配置溶液；（5）反应沉积；（6）后续处理：将镀膜衬底用去离子水冲洗，然后吹干或烘干。所...
张宁张涛余新平张至树徐刚
文献传递
磁控溅射工艺对Mo膜性能的影响
2014年
采用中频磁控溅射方法制备用于CIGS薄膜太阳能电池背电极的Mo膜。研究了靶面磁场强度、溅射气压、溅射电流等工艺参数对Mo膜沉积速率、电阻率、形貌及应力的影响。研究表明:随着靶面磁场强度的增强,Mo膜电阻率和沉积速率均下降;使用较高的溅射电流可以获得较高的沉积速率和较低的电阻率,使用较低的溅射气压可以获得较低的电阻率和较高的沉积速率。在本试验条件下制备的Mo膜基本上呈现拉应力状态并且随溅射气压的升高而增大。
汤清琼刘沅东张宁余新平张至树
关键词：磁控溅射应力电阻率
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共2页<12>
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