您的位置： 专家智库 > >

张露

作品数：13 被引量：0H指数：0
供职机构：中国科学院半导体研究所更多>>
相关领域：文化科学电子电信理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 10篇专利
  • 3篇会议论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇文化科学
  • 1篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 8篇金属有机物
  • 3篇MOCVD
  • 2篇氮气
  • 2篇多路
  • 2篇选择性
  • 2篇烧结助剂
  • 2篇碳化硅
  • 2篇碳化硅微粉
  • 2篇气场
  • 2篇气体
  • 2篇气源
  • 2篇氢气
  • 2篇微粉
  • 2篇小流量
  • 2篇粒径
  • 2篇流场
  • 2篇流量计
  • 2篇金属有机化学...
  • 2篇晶片
  • 2篇晶体

机构

  • 13篇中国科学院

作者

  • 13篇张露
  • 13篇李晋闽
  • 13篇冉军学
  • 13篇肖红领
  • 13篇王晓亮
  • 13篇胡国新
  • 13篇殷海波

年份

  • 2篇2012
  • 2篇2011
  • 9篇2010
共 13 条 记 录，以下是 1-10
全选 清除 导出
排序方式：
用于金属有机物化学沉积设备的加热装置
本发明公开了一种用于金属有机物化学沉积设备的加热装置，包括：至少两段炉丝，该至少两段炉丝布置在同一加热平面内，且每一段炉丝连接到各自的电极；邻近所述加热平面布置在至少两段炉丝下方的测温计，用于探测每一段炉丝的加热温度；和...
胡国新王晓亮冉军学肖红领张露殷海波李晋闽
文献传递
金属有机物化学沉积设备的反应室
本发明公开了一种用于金属有机化学气相沉积设备的反应室，包括：反应室腔体；与腔体连通的反应气及载气进气法兰；设置在腔体内用于承载半导体晶片的衬托；与腔体连通的尾气管路；对衬托进行加热的加热器；和使得衬托旋转的旋转装置，其中...
冉军学王晓亮胡国新肖红领殷海波张露李晋闽
文献传递
用于金属有机物化学沉积设备的扇形进气喷头
一种用于金属有机物化学沉积设备的扇形进气喷头，包括：封闭型外壳体，该外壳体包括上层板、中层板和下层板，在上层板与中层板之间形成供气体进入的进气腔室，在中层板和下层板之间形成冷却腔室，进气腔室被分隔成彼此隔离的多个扇形区域...
胡国新王晓亮冉军学肖红领殷海波张露李晋闽
文献传递
用于金属有机物化学沉积设备的衬托盘及其制作工艺
本发明公开了一种用于金属有机物化学沉积设备的衬托盘的制作工艺，包括以下步骤：在纯度≥98％、平均粒径0.5μm以下、具有流动性的碳化硅微粉中添加烧结助剂，采用干式混合法形成混合物；采用干压成型工艺压制成型以形成坯体；对坯...
殷海波王晓亮胡国新冉军学肖红领张露李晋闽
用于金属有机物化学沉积设备的气路装置
本发明公开一种用于金属有机物化学沉积(MOCVD)设备的气路装置，其包括：气体入口；从所述气体入口引出的并行布置的多组气路，每一组气路包括并行布置的第一子气路和第二子气路，第一子气路和第二子气路中的每一个都能够选择性地与...
冉军学王晓亮胡国新肖红领张露殷海波李晋闽
文献传递
GaN MOCVD控制系统设计与研制
本文对我们研制的MOCVD控制系统特点进行了介绍,通过设计实现了对MOCVD设备压力、流量、温度等关键参数的精确控制,开发了上位机手动控制软件和工艺配方自动控制软件,本控制软件系统经过MOCVD设备(七片机)的验证和长时...
冉军学王晓亮胡国新张露殷海波肖红领李晋闽
关键词：MOCVD自动控制PLC控制软件
文献传递
7片2英寸氮化物MOCVD设备及材料研制
MOCVD设备是半导体材料制备的关键设备,本文介绍了我们自主研发的一次可生长7片2英寸氮化物材料的MOCVD设备,用该设备进行了材料生长验证,外延出高质量的氮化物基单层材料和LED结构材料。
冉军学胡国新肖红领殷海波张露王晓亮李晋闽
关键词：MOCVD蓝光LED
文献传递
用于金属有机物化学沉积设备的气体分配装置
本发明公开一种用于金属有机物化学沉积设备的气体分配装置，包括：通过氮气管道连接到氮气气源的氮气分配管路，该氮气分配管路具有多个氮气分配支路；通过氢气管道连接到氢气源的氢气分配管路，该氢气分配管路具有多个氢气分配支路，其中...
王晓亮冉军学胡国新肖红领张露殷海波李晋闽
用于金属有机物化学沉积设备的气体分配装置
本发明公开一种用于金属有机物化学沉积设备的气体分配装置，包括：通过氮气管道连接到氮气气源的氮气分配管路，该氮气分配管路具有多个氮气分配支路；通过氢气管道连接到氢气源的氢气分配管路，该氢气分配管路具有多个氢气分配支路，其中...
王晓亮冉军学胡国新肖红领张露殷海波李晋闽
文献传递
金属有机物化学沉积设备的反应室
本发明公开了一种用于金属有机化学气相沉积设备的反应室，包括：反应室腔体；与腔体连通的反应气及载气进气法兰；设置在腔体内用于承载半导体晶片的衬托；与腔体连通的尾气管路；对衬托进行加热的加热器；和使得衬托旋转的旋转装置，其中...
冉军学王晓亮胡国新肖红领殷海波张露李晋闽
全选 清除 导出
共2页<12>
聚类工具0