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张露

作品数:9 被引量:8H指数:2
供职机构:北京工业大学更多>>
发文基金:博士科研启动基金更多>>
相关领域:电子电信生物学文化科学自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 2篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇生物学
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇文化科学

主题

  • 4篇光刻
  • 3篇光刻工艺
  • 3篇光刻胶
  • 3篇分类器
  • 2篇照度
  • 2篇视频
  • 2篇视频图像
  • 2篇数据拟合
  • 2篇图像
  • 2篇图像分类
  • 2篇自动判断
  • 2篇光度
  • 2篇分光
  • 2篇分光计
  • 1篇蛋白
  • 1篇蛋白质
  • 1篇蛋白质相互作...
  • 1篇电力
  • 1篇电子材料
  • 1篇选择比

机构

  • 9篇北京工业大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 9篇张露
  • 4篇孙丽媛
  • 4篇邹德恕
  • 4篇高志远
  • 2篇马莉
  • 2篇沈光地
  • 2篇吴文荣
  • 2篇李红璐
  • 2篇张文利
  • 1篇田亮
  • 1篇侯洵
  • 1篇肖红领
  • 1篇冯春
  • 1篇王占国
  • 1篇王晓亮
  • 1篇王翠梅
  • 1篇陈窮
  • 1篇吴文蓉

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇第十七届全国...

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2018
  • 1篇2016
  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 4篇2012
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
一种基于不同照度的图像分类及处理方法
本发明公开了一种基于不同照度的图像分类及处理方法,其实现步骤主要有:采集不同照度的视频图像作为训练样本图像;提取样本图像的特征作为实验数据;对特征数据进行学习训练,形成分类器;根据已构建分类器实现对未知的不同照度图像分类...
张文利李红璐李会宾张露
文献传递
多台阶器件结构深层表面光刻工艺优化被引量:2
2012年
针对多台阶器件结构深层表面光刻工艺中存在的问题,对不同台阶高度分别测量了台阶表面及台阶底部沉积的光刻胶厚度,并对台阶高度与光刻胶厚度的关系进行数值描述与分析.基于Beer定律对薄光刻胶光吸收系数的描述,分析了通过实验得到的不同曝光时间下光刻胶的光强透过率曲线,解释了随着曝光时间的增加光刻胶光强透过率发生变化的原因,同时认为光刻胶光吸收系数与光刻胶厚度密切相关.在此基础上,确定了台阶底部堆积光刻胶完全曝光所需时间.优化平面光刻工艺,在不同台阶高度的深台阶表面及底部同时制作出窄线条的高质量图形.
孙丽媛高志远邹德恕张露马莉田亮沈光地
关键词:光刻工艺
高阻GAN的MOCVD生长研究
  使用MOCVD在蓝宝石衬底上生长了非故意掺杂的高阻GAN薄膜.分别研究了GAN外延层生长的反应室压力和GA源流量对电阻率和晶体质量的影响.螺位错会在GAN中引入导电路径,降低电阻率.刃位错起受主型陷阱的作用,会补偿背...
张露王晓亮肖红领陈窮王翠梅冯春沈光地王占国侯洵
关键词:高阻XRDKOHSEMAFM
文献传递网络资源链接
一种基于不同照度的图像分类及处理方法
本发明公开了一种基于不同照度的图像分类及处理方法,其实现步骤主要有:采集不同照度的视频图像作为训练样本图像;提取样本图像的特征作为实验数据;对特征数据进行学习训练,形成分类器;根据已构建分类器实现对未知的不同照度图像分类...
张文利李红璐李会宾张露
InGaN背势垒HEMT电力电子材料及器件研究
电能是目前最重要的能源,如何减少电能在传输、转换等过程中的损耗具有重大的现实意义。电力电子技术研究的是电能的输送、转换和控制,电力电子器件是电力电子系统的核心元件,随着电力电子技术的快速发展,硅材料本身的局限性日益凸显,...
张露
关键词:GAN材料双异质结卢瑟福背散射
多台阶器件结构底层表面的光刻方法
多台阶器件结构底层表面的光刻方法,属于光刻技术领域。本发明采用SEM观察涂覆光刻胶样品的剖面,测量台阶底部的光刻胶厚度。使用光度分光计及数据拟合方法做出台阶底部光刻胶在不同曝光时间下的透过率曲线,找出光刻胶完全曝光所需时...
高志远孙丽媛邹德恕张露吴文荣
文献传递
多台阶器件结构底层表面的光刻方法
多台阶器件结构底层表面的光刻方法,属于光刻技术领域。本发明采用SEM观察涂覆光刻胶样品的剖面,测量台阶底部的光刻胶厚度。使用光度分光计及数据拟合方法做出台阶底部光刻胶在不同曝光时间下的透过率曲线,找出光刻胶完全曝光所需时...
高志远孙丽媛邹德恕张露吴文荣
文献传递
基于DM--RPI方法的非编码RNA--蛋白质相互作用的预测研究
随着2001年人类基因组测序的完成,人们发现在人类基因组中DNA转录成RNA后,只有大约2%的RNA会翻译出蛋白质,剩下的约98%的RNA不会翻译出蛋白质,这类RNA被称为非编码RNA(non-coding RNA,nc...
张露
关键词:非编码RNA蛋白质相互作用分类器
GaAs材料ICP刻蚀中光刻胶厚度及刻蚀条件对侧壁倾斜度的影响被引量:6
2012年
使用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀技术刻蚀GaAs材料,在光刻过程中采用不同厚度的光刻胶,研究在同一刻蚀条件下不同光刻胶厚度对刻蚀图形侧壁倾斜度的影响,并研究了光刻胶厚度对侧壁倾角影响在不同大小图形刻蚀中的尺寸效应,提出了关于刻蚀机理的尺寸增益现象及可能发生的刻蚀离子的散射模型,解释了光刻胶厚度较大时小线宽图形侧壁倾角变化明显的现象。在研究光刻胶厚度对侧壁倾角影响的基础上,研究了不同ICP刻蚀选择比对GaAs样品刻蚀后侧壁倾角的变化的影响,并从GaAs干法刻蚀机理及刻蚀条件对ICP刻蚀过程中的化学、物理反应的影响来解释这一现象。
孙丽媛高志远张露马莉吴文蓉邹德恕
关键词:ICP刻蚀光刻胶
共1页<1>
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