曹莹
- 作品数：54 被引量：70H指数：5
- 供职机构：上海交通大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金上海市科委纳米专项基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学电子电信化学工程机械工程更多>>
- 基于微机电系统的射频螺线管微电感的制作方法
- 一种微电子技术领域的基于微机电系统的射频螺线管微电感的制作方法，采用微机电系统技术，对清洗干净的玻璃衬底进行处理，得到双面套刻对准符号，以便曝光时提高对准精度；采用准-LIGA技术和厚光刻胶工艺制备线圈和连接导体的光刻胶...
- 周勇王西宁赵小林曹莹高孝裕
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- 纳米碳管复合电镀锌薄膜的制备方法
- 一种纳米碳管复合电镀锌薄膜的制备方法，以硫酸盐镀锌液为基础，通过添加纯化的纳米碳管，构成一种高稳定性纳米碳管复合电镀锌溶液体系，先将硫酸锌、硫酸钠、缓冲剂以少量去离子水溶解后混合，并以稀氢氧化钠或者硫酸溶液调整镀液pH值...
- 丁桂甫曹莹
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- 倾斜旋转紫外曝光在微针制备上的应用被引量：2
- 2010年
- 采用倾斜旋转光刻的方法开展圆锥形异平面微针制备技术研究.通过改进实验室现有设备,以SU8光刻胶结构为模具,通过聚合物材料间的图形转移制备了PDMS异平面圆锥形实心微针的倾角为67°、高度为353μm的微针阵列.该方法具有低成本多材料适用的制备优势.
- 蒋宏民朱军曹莹陈翔陈迪
- RF溅射制备Ta_2O_5薄膜及其电学性能的研究被引量：4
- 2005年
- 高介电常数薄膜广泛应用于动态随机存储器中.本文主要采用反应溅射在Si基体上制备Ta2O5薄膜,研究了在25～100nm厚度范围内薄膜的电学性能.讨论了不同退火时间对Ta2O5薄膜结构和性能的影响,测量了退火后薄膜的漏电流,并计算出其介电常数.
- 曹莹丁文毛海平周勇
- 关键词：TA2O5电学性能漏电流随机存储器
- 基于微机电系统的巨磁阻抗效应磁敏器件的制作方法
- 一种基于微机电系统的巨磁阻抗效应磁敏器件的制作方法。属于传感器技术领域。本发明采用微机电系统(MEMS)技术，对双面氧化的硅片进行处理，得到双面套刻对准符号，以便曝光时提高对准精度；采用准－LIGA光刻技术和微电镀技术制...
- 周勇丁文曹莹陈吉安周志敏
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- 悬空结构射频微电感及其制作方法
- 一种微电子技术领域的悬空结构射频微电感及其制作方法。所述悬空结构射频微电感中，金属螺旋型线圈与衬底间设有支撑体，支撑体一端与金属螺旋型线圈连接，支撑体另一端与衬底连接，在金属螺旋型线圈与引线连接处设有连接体，连接体两端分...
- 周勇曹莹周志敏丁文
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- 载药金属微针的结构设计及制备被引量：3
- 2012年
- 提出一种新型载药微针结构设计方案,采用硅的各向异性刻蚀工艺与SU-8胶光刻工艺相结合的方法制备硅与光刻胶复合载药微针模具,将硅的各向异性刻蚀所得棱锥结构用于复制微针的尖端部分,SU-8胶曝光套刻出的带凸起结构的柱体用于复制微针的柱体部分,以此微结构为模具,通过2次聚二甲基硅氧烷(PDMS)浇铸复制而得PDMS凹三维结构.在此结构上,溅射金属种子层后采用小电流电铸技术电镀金属Ni,脱模得到载药金属微针.经力学性能测试,其断裂强度为366MPa,远大于刺穿皮肤所需断裂强度3.183MPa.
- 曹玉田朱军曹莹李以贵陈翔陈迪
- 关键词：微针光刻胶各向异性刻蚀
- 空芯结构射频螺线管微电感
- 一种微电子技术领域的空芯结构射频螺线管微电感，由衬底、引脚、螺线管线圈和平面波导线组成，螺线管线圈位于衬底上，其周围为平面波导线，螺线管线圈由底层线圈、顶层线圈通过连接导体连接形成，螺线管线圈的两端连接引脚，螺线管线圈的...
- 周勇王西宁赵小林曹莹高孝裕
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- 电化学选择性刻蚀Cu/Ni牺牲层技术的研究被引量：1
- 2005年
- 牺牲层腐蚀技术结合MEMS技术是制作三维可动微机构的一个重要加工手段。采用电位控制的电化学释放牺牲层技术,对2种不同刻蚀液下的Cu/Ni叠层结构分别进行了电化学腐蚀,并测量了其伏安特性,结果表明:电位控制的电化学腐蚀能很好地进行有选择性刻蚀Cu/Ni牺牲层。
- 李永海丁桂甫张永华曹莹
- 关键词：电化学腐蚀选择性刻蚀牺牲层技术
- 基于微机电系统的力敏器件的制作方法
- 一种微机电系统技术领域的基于微机电系统的力敏器件的制作方法。方法如下：双面氧化过的硅衬底基片的表面清洗处理；双面甩正胶、曝光与显影及刻蚀SiO<Sub>2</Sub>；去光刻胶、单面刻蚀Si；溅射FeCuNbSiB薄膜；...
- 周勇陈吉安丁文曹莹周志敏
- 文献传递
