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林雁飞

作品数:9 被引量:29H指数:4
供职机构:厦门大学物理与机电工程学院机电工程系更多>>
发文基金:福建省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术化学工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 3篇会议论文

领域

  • 4篇电子电信
  • 3篇自动化与计算...
  • 1篇化学工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇电容式
  • 3篇湿法腐蚀
  • 3篇硼硅玻璃
  • 3篇膜制备
  • 3篇硅玻璃
  • 3篇感器
  • 3篇传感
  • 3篇传感器
  • 3篇P
  • 2篇电容式压力
  • 2篇电容式压力传...
  • 2篇压力传感器
  • 2篇义齿
  • 2篇力传感器
  • 2篇扩散
  • 2篇MEMS
  • 1篇电容
  • 1篇掩膜
  • 1篇阳极键合
  • 1篇医用传感器

机构

  • 9篇厦门大学
  • 1篇莆田学院

作者

  • 9篇林雁飞
  • 9篇冯勇建
  • 4篇张丹
  • 3篇郑志霞
  • 2篇张丹
  • 2篇胡洪平

传媒

  • 3篇微纳电子技术
  • 1篇厦门大学学报...
  • 1篇中国机械工程
  • 1篇传感技术学报
  • 1篇第八届中国微...
  • 1篇中国微米纳米...

年份

  • 1篇2008
  • 2篇2006
  • 6篇2005
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
基于MEMS技术的电容式微型真空传感器被引量:5
2008年
介绍了一种以MEMS技术为基础的电容式硅微真空传感器。该传感器主要采用p+硅自停止腐蚀技术和阳极键合技术制作,形成了玻璃-硅-玻璃的三明治结构。传感器的传感元是经过浓硼扩散的硼硅膜,方形硼硅膜的应用使传感器具有更高的灵敏度;感应耦合等离子体刻蚀硼硅膜引出金属电极的方法使传感器的制作更为简单。该真空微传感器具有结构简单、灵敏度高等优点,其尺寸为5mm×6.4mm。该真空传感器的测量范围为5×10-3~6×10-2Pa,其线性度为5.9%,灵敏度比较稳定。
张丹林雁飞冯勇建
关键词:微机电系统传感器阳极键合
P+膜制备工艺研究
2005年
通过对浓硼扩散工艺的介绍,讨论了沉积过程中的几个重要参数,并针对扩散过程中出现的硼硅玻璃等问题,提出了可行的解决方法.
林雁飞冯勇建张丹
关键词:扩散硼硅玻璃
P~+膜制备工艺研究
通过对浓硼扩散工艺的介绍,讨论了沉积过程中的几个重要参数,并针对扩散过程中出现的硼硅玻璃等问题,提出了可行的解决方法。
林雁飞冯勇建张丹
关键词:扩散硼硅玻璃
文献传递
基于义齿压力检测的MEMS电容式压力传感器的研制
本文评价了一对义齿的好坏必须了解其对口腔下方组织的作用力情况,根据电容式压力传感器的原理,采用MEMS工艺,结合义齿在口腔中的工作环境,研制出一种新型的医用MEMS电容式压力传感器.将传感器分布式埋植入义齿基托内,对口腔...
胡洪平林雁飞冯勇建
关键词:义齿MEMS电容式压力传感器
文献传递
PYREX玻璃湿法凹槽腐蚀研究被引量:7
2005年
在玻璃上刻蚀凹槽作为腔体,是半导体制造工艺中一个新方法。本文讨论了玻璃湿法腐蚀的工艺方法,通过清洗、涂胶、光刻、腐蚀等工艺的反复实验,分析了涂胶厚度与甩胶速率的关系,腐蚀深度随腐蚀时间的变化情况,并总结出玻璃刻蚀过程中的重要参数和注意事项。
林雁飞郑志霞张丹冯勇建
关键词:湿法腐蚀
7740玻璃湿法腐蚀凹槽及槽内光刻图形的研究被引量:9
2005年
用玻璃腐蚀工艺制作MEMS器件,腐蚀非常困难.通过对PYREX7740玻璃在Buffer溶液中腐蚀速率的研究发现,PYREX7740玻璃腐蚀1μm的槽需要25min,而作为掩膜的光刻胶在腐蚀液中只能保持10min不浮胶.为此,文中详细介绍了运用一次光刻,多次坚膜,多次腐蚀的工艺,来达到对PYREX7740玻璃进行深腐蚀的方法.实验结果表明,光刻胶厚度、坚膜时间、坚膜次数和坚膜温度都与光刻胶的浮胶有关,最后给出了不同条件下凹槽深度与所需的曝光和显影时间的关系,槽越深需要的曝光和显影时间越长.这对于用PYREX7740玻璃制作MEMS器件具有重要意义.
郑志霞林雁飞冯勇建
关键词:湿法腐蚀MEMS器件BUFFER光刻胶腐蚀速率
基于义齿压力检测的MEMS电容式压力传感器的研制被引量:3
2006年
评价一对义齿的好坏必须了解其对口腔下方组织的作用力情况,文中根据电容式压力传感器的原理,采用MEMS工艺,结合义齿在口腔中的工作环境,研制出一种新型的医用MEMS电容式压力传感器.将传感器分布式埋植入义齿基托内,对口腔下方组织的作用力进行测试,测试结果表明,该传感器能够准确地测定出义齿下方粘膜及粘膜下方的骨组织所承受的力和力的分布.该传感器结构稳定,测量稳定性好,适用于口腔恶劣环境下测定义齿对口腔下方组织作用力的测定.
胡洪平林雁飞冯勇建
关键词:义齿医用传感器MEMS
P+膜制备工艺研究
本文通过对浓硼扩散工艺的介绍,讨论了沉积过程中的几个重要参数,并针对扩散过程中出现的硼硅玻璃等问题,提出了可行的解决方法.
林雁飞冯勇建张丹
关键词:硼硅玻璃
文献传递
BP-212正性光刻胶的抗蚀特性研究被引量:8
2005年
BP-212正性光刻胶作为掩膜在BHF腐蚀液中腐蚀十几分钟后,光刻胶被腐蚀液破坏而浮胶。玻璃或热生长的二氧化硅深槽腐蚀时间要求几十分钟,传统解决办法是多次光刻腐蚀。本文研究了光刻胶抗腐蚀特性,得出足够的活化时间、合适的匀胶转速、多次坚膜腐蚀可以延长产生浮胶时间的结论。
郑志霞冯勇建张丹林雁飞
关键词:掩膜湿法腐蚀
共1页<1>
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