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周荃

作品数：6 被引量：9H指数：2
供职机构：东华大学更多>>
发文基金：上海市科委纳米专项基金国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇气相沉积
  • 3篇纳米
  • 2篇等离子体
  • 2篇阻挡放电
  • 2篇纳米颗粒膜
  • 2篇结晶态
  • 2篇介质
  • 2篇晶态
  • 2篇颗粒膜
  • 2篇空间构型
  • 2篇构型
  • 2篇放电区
  • 2篇常压等离子体
  • 2篇大气压
  • 1篇多孔
  • 1篇循环泵
  • 1篇荧光
  • 1篇图案化
  • 1篇全氟化合物
  • 1篇纳米多孔

机构

  • 6篇东华大学

作者

  • 6篇周荃
  • 4篇徐金洲
  • 4篇张菁
  • 2篇夏磊
  • 2篇徐绍魁
  • 2篇彭小波
  • 1篇刘亚男
  • 1篇张晗
  • 1篇姜楠
  • 1篇郭颖
  • 1篇李响

传媒

  • 2篇东华大学学报...

年份

  • 1篇2021
  • 3篇2008
  • 1篇2007
  • 1篇2006
共 6 条 记 录，以下是 1-6
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排序方式：
大气压平面放电化学气相沉积纳米颗粒膜方法及装置
一种大气压平面放电化学气相沉积纳米颗粒膜的方法及装置，其特征是在大气压化学气相沉积装置的反应器中增加气流分配器，使气体均匀流过放电区并在基材包括软基材表面均匀、快速地沉积具有相同组分的膜层。在装置的反应器中放置不同个数的...
徐金洲徐绍魁周荃彭小波张菁
文献传递
纳米多孔硅基薄膜的常压等离子体化学气相沉积过程研究被引量：4
2008年
采用常压等离子体化学气相沉积(APECVD)的方法制备了带有新颖结构和特殊蓝紫光(400nm左右)发光特性的硅基薄膜.通过在自行研制的等离子体反应装置中通入按100∶1∶1的体积比进行配比的SiH4∶H2∶Ar混合气体进行APECVD,在加负偏压条件下获得了由Si基组成的絮状多孔纳米结构薄膜.通过等离子体发射光谱测定了沉积过程中的电子温度在2.2eV左右,扫描电子显微镜(SEM)观测薄膜表面形貌后肯定了偏压对薄膜纳米结构的形成起着重要的作用.
夏磊周荃徐金洲张菁
介质阻挡放电及其在聚合物表面刻蚀中的应用被引量：1
2008年
介质阻挡放电(DBD)是在大气压条件下产生非平衡等离子体的一种常规技术,在许多方面有着广泛的应用.介绍了笔者自行研制的DBD装置,讨论了使用该装置所产生的常压低温等离子体对聚合物材料表面刻蚀处理后,材料上染率、粗糙化、润湿性、生物相容性和表面形貌等方面的变化.探讨了DBD在这些方面的应用前景.
周荃夏磊徐金洲郭颖张菁
关键词：等离子体表面处理
一种高效、快速处理污水中全氟化合物的装置及其方法
本发明公开了一种高效、处理污水中全氟化合物的装置及其方法。所述装置包括等离子体介质阻挡放电反应器、循环泵、蓄水池和放电电源，反应器进水口与循环泵出水管连接，反应器出水口和循环泵进水管均与蓄水池连接，放电电源与等离子体介质...
刘亚男朱大海段金萍高小婷张晗张艾孙铸宇李响张茵茵赵婧怡陈露露周荃周永泉贺金岭邓思雨古祺鹏吴清晨黄舒漫耿丹丁永强姜楠王美琳罗雨忻
文献传递
大气压平面放电化学气相沉积纳米颗粒膜方法及装置
一种大气压平面放电化学气相沉积纳米颗粒膜的方法及装置，其特征是在大气压化学气相沉积装置的反应器中增加气流分配器，使气体均匀流过放电区并在基材包括软基材表面均匀、快速地沉积具有相同组分的膜层。在装置的反应器中放置不同个数的...
徐金洲徐绍魁周荃彭小波张菁
文献传递
常压等离子体对高分子材料表面刻蚀的研究
本文主要论述了应用常压等离子体刻蚀处理高分子材料表面，以获得具有纳米级图案化的表面特征，并通过各种测试手段对聚合物表面的结构和成分进行测定。这对于将来在较低成本下，简化聚合物表面制备纳米结构的方法，创新实现常压介质阻挡放...
周荃
关键词：刻蚀技术等离子体高分子材料表面改性图案化
文献传递
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