季一勤
- 作品数：138 被引量：145H指数：7
- 供职机构：天津津航技术物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金天津市自然科学基金中国博士后科学基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程一般工业技术更多>>
- 一种滤除二氧化碳辐射波长的中波红外透射光学元件及其制备方法
- 本发明公开了一种滤除二氧化碳辐射波长的中波红外透射光学元件及其制备方法，属于光学薄膜技术领域，在3μm‑5μm波段中去除二氧化碳辐射波长，该制备方法，使用棱镜转向和反射滤光的方法，通过设计固定棱镜45度的反射滤光薄膜，通...
- 刘华松杨霄李士达孙鹏姜承慧季一勤
- 文献传递
- 一种超宽带红外截止滤光膜的制备方法
- 本发明公开了一种超宽带红外截止滤光膜的制备方法，包括步骤：基片清洁，基片加热，基片预清洗，膜系结构确定，基片材料选择锗，高折射率镀膜材料为Ge，低折射率镀膜材料为ZnS，采用双面镀膜方式实现红外截止滤光膜的制备，两面的膜...
- 冷健季一勤刘华松刘丹丹刑宇哲
- 文献传递
- 不同沉积方式SiO_2薄膜的自然时效特性（英文）被引量：2
- 2019年
- SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。文中采用不同沉积技术在Si基底上制备了SiO_2薄膜,并研究了它们光学特性的自然时效特性。采用不同贮存时间的椭偏光谱表征SiO_2薄膜的光学特性,随着时间的增加,EB-SiO_2薄膜和IAD-SiO_2薄膜的物理厚度和光学厚度随着增加,但IBS-SiO_2薄膜随着减小,变化率分别为1.0%,2.3%和-0.2%。当贮存时间达到120天时,IBS-SiO_2薄膜、EB-SiO_2薄膜和IAD-SiO_2薄膜的物理厚度和光学厚度趋于稳定。实验结果表明,IBSSiO_2薄膜的光学特性稳定性最好,在最外层保护薄膜选择中,应尽可能选择离子束溅射技术沉积SiO_2薄膜。
- 姜玉刚刘小利刘华松刘华松李士达陈丹刘丹丹陈丹季一勤
- 关键词：光学常数
- 获取多晶体光学硒化锌的方法
- 本发明属于光学介质工艺领域，即获得多晶体光学材料的方法，具体是获取多晶体光学硒化锌的方法。这种制备多晶体光学硒化锌的方法主要它包括原料的加热和蒸发，蒸汽冷凝到加热的衬底上，原材料是在1050-1150℃温度下进行蒸发的，...
- 季一勤张荣实洪伟郭嘉辉加里宾.E.A古谢夫.P.E杰米坚科.A.A杜纳耶夫.A.A米罗诺夫.I.A
- 低亚表面损伤石英光学基底的加工和检测技术被引量：14
- 2010年
- 制备低亚表面损伤的超光滑光学基底,是获得高损伤阈值薄膜的前提条件。针对石英材料在不同加工工序中引入亚表面损伤层的差异,首先利用共焦显微成像结合光散射的层析扫描技术,对W10和W5牌号SiC磨料研磨后的亚表面缺陷进行了检测,讨论了缺陷尺寸与散射信号强度、磨料粒径与损伤层深度间的对应关系;同时,采用化学腐蚀处理技术对抛光后样品的亚表面形貌进行了刻蚀研究,分析了化学反应生成物和亚表面缺陷对刻蚀速率的影响、不同深度下亚表面缺陷的分布特征,以及均方根粗糙度与刻蚀深度间的联系。根据各道加工工艺的不同采用了相应的亚表面检测技术,由此来确定下一道加工工序,合理的去除深度,最终获得了极低亚表面损伤的超光滑光学基底。
- 马彬沈正祥张众贺鹏飞季一勤刘华松刘丹丹王占山
- 关键词：亚表面损伤层光散射化学腐蚀刻蚀速率
- 硫化锌材料短波长散射消光系数的表征方法
- 本发明涉及一种硫化锌材料短波长散射消光系数的表征方法，属于光学材料技术领域。本发明从介电常数方程上建立了散射消光模型，重新构建了硫化锌材料的可见光到红外的介电常数模型，基于介电常数与透过率光谱的关系，在实验上通过测试出光...
- 刘华松李士达刘丹丹王利栓杨霄季一勤
- 文献传递
- 一种球面光学多层膜元件的光学特性获取方法
- 本发明属于光学技术领域，具体涉及一种球面光学多层膜元件的光学特性获取方法。该方法首先将入射光的能量在球面入射光照射面积上均分，然后分别针对平行光入射和点状光源入射的情况，建立球面任意环带上的光线入射角与环带位置坐标的关系...
- 刘华松孙鹏李士达季一勤
- 文献传递
- 金属氧化物薄膜光学常数计算物理模型应用研究被引量：2
- 2014年
- 采用离子束溅射(IBS)方法制备了HfO2和Ta2O5两种金属氧化物薄膜,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。在拟合过程中,采用L8(27)正交表设计了8组反演计算实验,在初始选定Cauchy模型后,对HfO2薄膜拟合影响最大的为表面层模型,对Ta2O5薄膜拟合影响最大的为折射率梯度模型。确定了不同物理模型对拟合函数MSE的影响权重和拟合过程中模型选择的次序,按照确定的模型选择次序拟合,最后加入弱吸收模型反演计算两种薄膜的光学常数,反演计算的MSE相对初始MSE可下降79%和39%,表明拟合过程模型选择物理意义明确,具有广泛的应用价值。在500nm处,Ta2O5薄膜的折射率梯度大于HfO2薄膜,而HfO2薄膜消光系数大于Ta2O5薄膜。表明Hf金属与Ta金属相比容易氧化形成稳定的氧化物,HfO2薄膜的吸收要高于Ta2O5薄膜。
- 刘华松姜承慧王利栓刘丹丹姜玉刚孙鹏季一勤
- 关键词：HFO2TA2光学常数物理模型
- 一种枪瞄光学系统
- 本申请公开了一种枪瞄光学系统。包括：白光物镜组件、分光转像组件、分光棱镜组件和目镜组件，沿物侧到像侧方向依次排列设置；微光物镜组件，设于所述分光转像组件的下方；红外物镜组件，设于所述白光物镜组件的下方；本申请设计沿物侧到...
- 张冰锐罗绵卫孟军合季一勤郑焕东张晨钟
- 文献传递
- 一种二元叠层光学材料定向光谱热辐射率的计算方法
- 本发明属于光谱领域，具体涉及一种二元叠层光学材料定向光谱热辐射率的计算方法，特别是涉及一种ZnS/ZnSe叠层红外光学材料定向光谱热辐射率的计算方法。本发明通过建立辐射光波在叠层材料轴向传输的物理模型，通过光学非相干传输...
- 刘华松杨霄季一勤姜承慧王利栓刘丹丹
