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崔文凯

作品数:2 被引量:8H指数:2
供职机构:北京工业大学电子信息与控制工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 1篇雪崩
  • 1篇雪崩光电探测...
  • 1篇增层
  • 1篇探测器
  • 1篇界面态
  • 1篇光电
  • 1篇光电探测
  • 1篇光电探测器
  • 1篇光谱响应
  • 1篇硅基
  • 1篇硅片
  • 1篇硅片表面
  • 1篇SI
  • 1篇APD
  • 1篇粗糙度
  • 1篇V

机构

  • 2篇北京工业大学

作者

  • 2篇郭霞
  • 2篇崔文凯
  • 2篇马云飞
  • 2篇周弘毅
  • 2篇武华
  • 1篇陈树华

传媒

  • 1篇电子科技
  • 1篇半导体光电

年份

  • 1篇2014
  • 1篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
硅片表面粗糙度对界面态的影响被引量:6
2013年
针对硅片研磨和抛光产生的亚表面损伤层会影响载流子寿命及界面态的特点,采用机械减薄、机械抛光、化学机械抛光(CMP)制备出不同粗糙度的样品。通过傅里叶红外透射谱分析和C-V测试分析表明,粗糙度大的硅片表面因表面损伤大,具有更低的红外透射率和更高的界面态密度。
陈树华武华周弘毅崔文凯马云飞郭霞
关键词:粗糙度界面态
硅基雪崩光电探测器倍增层掺杂的研究被引量:2
2014年
硅基雪崩光电探测器的器件性能与倍增层的掺杂浓度有着密切联系。研究了硅基雪崩光电探测器倍增层的掺杂浓度对雪崩击穿电压和光谱响应度等特性的影响。在硼的注入剂量由5.0×1012 cm-2减小为2.5×1012cm-2时,倍增层内电场强度逐渐降低,吸收区电场强度迅速增大,器件的雪崩击穿电压由16.3V迅速上升到203V,而光谱响应在95%的击穿电压下,峰值响应波长由480nm红移至800nm,对应的响应度由11.2A/W剧增到372.3A/W。综合考虑光谱响应和雪崩击穿电压的影响,在硼注入剂量为3.5×1012 cm-2时,可获得击穿电压为43.5V和响应度为342.5A/W的器件模型,对实际器件的制备具有一定参考价值。
崔文凯武华马云飞周弘毅郭霞
关键词:SIAPD光谱响应
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