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杨晓云

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：昆明物理研究所更多>>
相关领域：理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇理学

主题

  • 1篇阳极
  • 1篇阳极氧化
  • 1篇阳极氧化膜
  • 1篇氧化膜
  • 1篇XPS
  • 1篇XPS分析
  • 1篇汞
  • 1篇碲
  • 1篇HGCDTE

机构

  • 1篇昆明物理研究...
  • 1篇云南省分析测...

作者

  • 1篇杨晓云
  • 1篇崔永杰
  • 1篇史衍丽

传媒

  • 1篇Chines...

年份

  • 1篇1997
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
HgCdTe阳极氧化膜及界面XPS分析
1997年
通过电子能谱仪对经阳极氧化表面钝化工艺处理后的ＨｇＣｄＴｅ表面所生成的氧化膜及界面进行深度分析研究。结果表明，该氧化膜中有Ｔｅ和Ｃｄ的单质成分存在，氧化膜中的氧化物形式为ＴｅＯ２、ＣｄＴｅ２Ｏ５和ＨｇＴｅ２Ｏ５；在界面中，随着剖析深度的增加Ｔｅ２Ｏ２－５向ＴｅＯ２－３过渡。
杨晓云崔永杰史衍丽
关键词：XPS汞碲阳极氧化膜
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共1页<1>
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