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常艳

作品数：2 被引量：7H指数：1
供职机构：浙江大学材料科学与工程学系硅材料国家重点实验室更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇多晶
  • 2篇多晶硅
  • 2篇多晶硅薄膜
  • 2篇柔性衬底
  • 2篇热丝
  • 2篇热丝化学气相...
  • 2篇化学气相
  • 2篇化学气相沉积
  • 2篇硅薄膜
  • 2篇衬底
  • 1篇电池
  • 1篇太阳电池
  • 1篇HWCVD

机构

  • 2篇浙江大学

作者

  • 2篇常艳
  • 2篇杨德仁
  • 2篇汪雷
  • 1篇陈官壁

传媒

  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇第九届中国太...

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2006
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
利用HWCVD在柔性衬底上制备多晶硅薄膜被引量：7
2007年
通过热丝化学气相沉积法(Hot Wire Chemical Vapor Deposition,HWCVD),采用间歇供应硅烷气体,持续通入氢气的方式控制硅薄膜的生长,发现该方法在有机衬底上生长的薄膜结构为多晶相占主导地位。此外,研究了不同间歇周期条件下薄膜的形貌和结构,并对生长机理进行了解释和讨论。
常艳陈官壁汪雷杨德仁
关键词：柔性衬底多晶硅薄膜热丝化学气相沉积太阳电池
利用间歇供气法在柔性衬底上制备多晶硅薄膜
通过热丝化学气相沉积法(HW-CVD),采用间歇供气方式制备硅薄膜.实验发现该方法在有机衬底上生长的薄膜为多晶硅结构,而采用连续供气法在有机衬底上生长的薄膜则为非晶硅结构.间歇供气法制备多晶硅薄膜生长速率约为20(A)/...
常艳汪雷杨德仁
关键词：多晶硅薄膜柔性衬底热丝化学气相沉积
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