温晓辉
- 作品数：25 被引量：28H指数：3
- 供职机构：中国科学技术大学物理学院近代物理系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术电子电信化学工程更多>>
- 热阴极直流放电等离子体化学气相淀积金刚石膜过程中等离子体环境的研究被引量：3
- 1999年
- 利用光发射谱和Langmuir探针对热阴极直流放电等离子体化学气相淀积(PCVD)金刚石薄膜的等离子体环境进行了原位诊断 ,根据探针和光谱诊断结果定量地计算了在放电电流密度变化过程中基态氢原子和基态CH基团数密度的变化 ,发现基态和激发态的原子氢和CH基团的数密度均因放电密度增加而提高 .电子密度、CH发射的相对强度均随放电电流密度的增加而线性增加 ,而不同的含碳活性粒子的产生与电子温度的升高有关 .将诊断结果与金刚石的生长相联系 ,表明激发态的原子氢的产生促进了金刚石的生长 ,等离子体环境中电子温度和密度的增加对金刚石生长速率提高起着重要的作用 .
- 朱晓东詹如娟周海洋胡敏温晓辉周贵恩李凡庆
- 关键词：金刚石薄膜等离子体诊断PCVD化学气相沉积
- 等离子体电子温度的控制用于反应粒子选择的研究
- 詹如娟温晓辉朱晓东
- 该项目成功地研究了两种方法，实现了对等离子体中的电子温度的调控，即在等离子体中放入栅网，将栅网悬浮或加正或负的偏压，通过调整栅网尺寸和偏压大小可以调控通过栅网的等离子体的电子温度，且等离子体密度变化不大；在产生等离子体的...
- 关键词：
- 关键词：电子温度
- EACVD中热阴极直流放电特性的实验研究
- 1997年
- 本文针对ＥＡＣＶＤ过程中经常出现的放电振荡和不稳定现象，比较系统地研究了ＥＡＣＶＤ中热阴极直流放电特性及其与工艺参数之间的关系，分析和讨论了放电振荡和不稳定现象发生的原因，并给出了避免和控制的途径和措施。
- 姚东升詹如娟温晓辉朱小东
- 关键词：稳流电源等离子体CVD热阴极
- ECR等离子体中电子能量分析器实验曲线的修正
- 对电子回旋共振等离子体中使用的电子能量分析器实验曲线偏离理想情况的几种现象进行了讨论,并提出了相应的修正和拟合的方法.
- 温晓辉詹如娟张锐
- 关键词：电子回旋共振图像数字化
- 文献传递
- 宽气压范围内裂缝天线等离子体特性研究
- 2001年
- 给出了气压为 10～ 2 80 0 0Pa时 ,环形倾斜裂缝天线等离子体源的放电特性。实验表明 ,该源在气压为 10～ 2 6 0 0Pa范围内是大体积表面波放电 ,并且在气压为 10和 2 30Pa时清楚地观察到裂缝天线附近石英管内的等离子体有较明显的 8个瓣和 12个瓣 (表面波模式可确定为m =4和m =6 ) ;当气压升高到 40 0 0～ 6 0 0 0Pa时 ,在石英管的底端和不锈钢真空室交界处激励起直径约为 12cm的高密度等离子体椭球 (10 1 1 cm- 3 量级 ) ;在气压为 110 0 0～ 140 0 0Pa时 ,发现等离子体有明显的涡动现象 ;而当气压上升到 2 0 0 0 0Pa以上 。
- 吴丛凤黄卫东温晓辉詹如娟
- 关键词：裂缝天线微波等离子体表面波涡动
- 等离子体化学气相沉积金刚石膜过程中光发射谱和朗谬尔探针原位诊断被引量：4
- 2001年
- 报道了利用光发射谱 (OES)和朗谬尔探针对热阴极直流放电等离子体化学气相沉积金刚石薄膜的等离子体条件进行原位研究的部分结果 ,研究了几种过程参数变化中等离子体状态 ,并与金刚石膜的沉积相联系。当CH4 浓度变化时 ,CH基团的发射强度和电子密度ne 的变化表现出相似趋势 ,均出现一极大值。而在高CH4 浓度 ,C2 的发射出现。在气压变化过程中 ,CH的发射强度和ne 均随气压的升高而下降 ,C2 的发射强度变化不大。用OES和朗谬尔探针测量的电子温度Te 所显示的结果是一致的。在这些过程中 ,电子碰撞应该是CH发射的主要机制 ,C2
- 朱晓东温晓辉周海洋詹如娟
- 关键词：电子温度电子密度金刚石薄膜等离子体化学气相沉积
- 常压线状冷等离子体射流产生装置
- 本发明提出一种常压线状冷等离子体射流产生装置，包括：介质板；固定在所述介质板的一个表面上的梳状悬空电极；固定在所述介质板的另一个表面上、与所述梳状悬空电极绝缘、且与音频交流功率源的输出端相连的交流电压电极板；中间开有一条...
- 朱晓东倪添灵丁芳温晓辉周海洋詹如娟
- 文献传递
- 大气压辉光放电等离子体与射流等离子体的产生
- 詹如娟刘鹏温晓辉朱晓东徐蕾
- 我们研制了一套大气压辉光放电系统，成功实现了多种电极结构下多种气体的大气压辉光放电，探讨了其放电特性，并在灭菌应用中获得显著效果。在平行平板的电极结构中获得了氦气（电极间距2cm）、氩气掺杂酒精（电极间距1cm）、氮气（...
- 关键词：
- 关键词：大气压辉光放电等离子体射流
- 电子回旋共振等离子体用于聚四氟乙烯材料表面改性被引量：2
- 2002年
- 在电子回旋共振 (ECR)等离子体装置中 ,使用Ar气 ,N2 气 ,H2 气和普通空气放电 ,对聚四氟乙烯 (PTFE)材料进行表面处理以提高其表面粘结性能。详细研究了在不同的放电气压 ,微波功率 ,处理时间 ,气体种类的情况下 ,样品表面的接触角的变化。同时也讨论了样品导电性能和外观等的变化。使用红外吸收谱对样品结构处理前后的变化进行了测量 ,对等离子体处理的机理进行了初步的讨论。使用Langmuir探针测量了Ar气和N2 气等离子体中的离子密度 ,用能量分析器测量了离子的能量。发现在对样品的处理中 ,ECR等离子体的离子密度是影响表面性能的主要因素 。
- 温晓辉詹如娟
- 关键词：表面改性聚四氟乙烯离子密度离子能量工程塑料
- 常压线状冷等离子体射流产生装置
- 本发明提出一种常压线状冷等离子体射流产生装置，包括：介质板；固定在所述介质板的一个表面上的梳状悬空电极；固定在所述介质板的另一个表面上、与所述梳状悬空电极绝缘、且与音频交流功率源的输出端相连的交流电压电极板；中间开有一条...
- 朱晓东倪添灵丁芳温晓辉周海洋詹如娟
- 文献传递
