您的位置: 专家智库 > >

董征

作品数:7 被引量:11H指数:2
供职机构:中国海洋大学材料科学与工程研究院更多>>
发文基金:教育部留学回国人员科研启动基金山东省自然科学基金国家大学生创新性实验计划更多>>
相关领域:一般工业技术理学电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 2篇一般工业技术
  • 2篇理学
  • 1篇化学工程

主题

  • 3篇电致变色
  • 3篇掺杂
  • 2篇电化学
  • 2篇电化学沉积
  • 2篇制备及性能
  • 2篇硅薄膜
  • 1篇导电
  • 1篇导电玻璃
  • 1篇电化学制备
  • 1篇电致变色薄膜
  • 1篇氧化硅薄膜
  • 1篇氧化镍
  • 1篇氧化镍薄膜
  • 1篇氧化锌薄膜
  • 1篇荧光
  • 1篇荧光特性
  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶-凝胶法
  • 1篇铜掺杂
  • 1篇透光率

机构

  • 7篇中国海洋大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国科学院金...

作者

  • 7篇董征
  • 6篇王景
  • 6篇苏革
  • 6篇柳伟
  • 6篇曹立新
  • 4篇赵莉丽
  • 4篇宋美芹
  • 3篇贾波
  • 2篇孙武珠
  • 1篇刘天中
  • 1篇马德文
  • 1篇陈娜
  • 1篇刘晓云
  • 1篇刘青

传媒

  • 2篇材料导报(纳...
  • 1篇科技导报
  • 1篇光学学报
  • 1篇功能材料
  • 1篇材料研究学报

年份

  • 1篇2012
  • 4篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
铝离子掺杂氧化锌薄膜的溶胶-凝胶法制备及性能被引量:1
2010年
运用室温溶胶-凝胶技术和热处理工艺,在载玻片上制备了铝离子掺杂的ZnO薄膜。采用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对薄膜的成分、结构和形貌进行了表征;采用紫外-可见光分光光度计对薄膜的透光性能进行了研究。结果表明,所制备的氧化锌薄膜为六方纤锌矿结构,沿c轴方向择优生长;铝离子的掺杂没有改变氧化锌的基本结构,所掺杂的铝离子为取代锌离子的替位掺杂;热处理后,氧化锌颗粒为六角形针(柱)状形貌;随着热处理温度的升高,薄膜的透光率增大;经600℃热处理后随着铝离子掺杂浓度的增加,薄膜的透光率先增大后减小,当铝离子掺杂浓度为2%时透光率最大;当铝离子掺杂浓度较大时,晶格畸变的影响使薄膜的透光率减小。当溶胶浓度为0.6mol/L、铝离子掺杂浓度为2%和热处理温度为600℃时,所制备薄膜的质量和性能最好。
贾波苏革刘天中曹立新柳伟孙武珠董征王景
关键词:溶胶-凝胶法透光率
硅薄膜的恒电位诱导组装法制备及光学性能
2011年
采用恒电位诱导组装法,在40℃、2.5V恒电位条件下,在FTO导电玻璃上制备硅薄膜,并分别通过循环伏安曲线(CV)、红外光谱仪、扫描电子显微镜(SEM)、紫外-可见分光光度计和荧光光谱仪对硅薄膜的生长条件、结构、形貌和光学性能进行了系统研究。结果表明,只有当溶液中用于模板剂的十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)的浓度高于其临界胶束浓度并且在一定的正硅酸四乙酯(TEOS)浓度时,才可以得到岛粒状的硅薄膜。由荧光光谱可知,组装成的硅薄膜经过焙烧,可生成氧缺位的SiOx薄膜,其中x≤2。由于氧缺位,在3.8eV光的激发下有2.5eV的光致发光。
董征刘青苏革柳伟曹立新王景贾波赵莉丽宋美芹刘晓云
关键词:硅薄膜光学性能SIOX
钴掺杂对氧化镍薄膜电致变色性能的影响被引量:2
2011年
采用恒电位法在FTO玻璃上沉积Co与Ni摩尔比为0.16:1的薄膜,用X射线衍射仪、扫描电镜和能谱仪分析了膜的成分、结构和形貌,用紫外-可见分光光度计表征了膜的透光性能,用循环伏安法表征了膜的电化学稳定性和可逆性,用双电位阶跃法表征了膜的开关响应时间,研究了钴掺杂对氧化镍薄膜电致变色性能的影响。结果表明,钴掺杂使NiO薄膜颗粒更加细小和均匀,提高了薄膜在可见光波段着色态与消色态之间的透光率差值,降低了电致变色反应的工作电压,有利于薄膜在电致变色过程的可逆性,缩短了着色响应时间。
王景苏革曹立新柳伟董征赵莉丽宋美芹
关键词:无机非金属材料电致变色可逆性
铜掺杂氧化镍电致变色薄膜的制备及性能被引量:3
2011年
通过电化学沉积法从N,N-二甲基甲酰胺(DMF)溶液中制备出铜掺杂氧化镍电致变色薄膜,采用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、紫外-可见分光光度仪(UV-vis)、傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、计时阶跃曲线(CA)和循环伏安曲线(CV)对所制备的薄膜进行了形貌、结构、光学以及电化学性能的观测和表征。通过对不同掺杂原子数分数、沉积电位以及沉积时间下所制备薄膜的光学性能的研究,得到了薄膜制备的优化工艺条件。结果表明,在室温下,当掺杂原子数分数比例为1∶8、沉积电压为3.5V和沉积时间为15min时,薄膜具有最佳的电致变色性能,透射率差值最大可达到78.7%;Cu掺杂产生了具有纳米棒状结构的物质,经XRD证实为面心立方型NixCu1-xO;电化学测试结果显示薄膜的响应时间较短,且具有较好的循环寿命。
赵莉丽苏革曹立新柳伟王景董征宋美芹
关键词:电致变色电化学沉积透射率
ZnS∶Mn转光粉的制备及性能研究
2012年
通过溶剂热法制备了不同锰离子掺杂量的硫化锌粉体转光剂,并利用SEM、XRD和荧光分光光度计对其形貌、组分、结构及发光性能进行了研究。结果显示,锰离子的掺入影响了硫化锌粉体的粒径,出现晶粒细化的现象。以紫外光作为激发光源,当锰的初始浓度不高于20%时,样品的发光峰通过高斯分峰可分为2个,分别位于465~475nm和570~585nm处;当锰的初始浓度高于20%时,硫化锌的发光峰消失,只出现锰的发光峰(580nm左右),即得到了预期的红色发光。
宋美芹苏革曹立新柳伟赵莉丽董征王景马德文陈娜
关键词:荧光特性掺杂量
NiO电致变色薄膜的电化学制备和性能被引量:5
2009年
以N,N-二甲基甲酰胺为溶剂、NiCl2为主盐、LiClO4为支持电解质、FTO导电玻璃为基体,采用恒电位电沉积的方法制备了电致变色性能良好的NiO薄膜。实验过程中对溶剂脱水方法、电沉积电压等实验条件进行了研究,探索在此体系中电沉积的最佳条件,制备出电致变色性能和附着性良好的NiO薄膜;通过X射线衍射仪、扫描电镜、高分辨透射电镜和能谱仪等仪器,对膜的成分、结构和厚度进行了分析;采用紫外可见分光光度计,对膜的透光性能进行了表征;通过循环伏安法和双电位阶跃法,对膜的电化学稳定性和响应时间进行研究。
孙武珠苏革曹立新柳伟贾波王景董征
关键词:电致变色电化学沉积
氧化硅薄膜的电辅助自组装及性能
薄膜自组装技术是近几年十分受关注的研究领域。本文采用电辅助自组装技术,选取FTO导电玻璃和高定向裂解石墨(HOPG)作为薄膜组装基底材料,以十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)为模板、正硅酸乙酯(TEOS)为硅源、硝酸钠为支...
董征
关键词:氧化硅薄膜导电玻璃
共1页<1>
聚类工具0