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吴永荣

作品数:4 被引量:15H指数:2
供职机构:同济大学理学院精密光学工程技术研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:理学机械工程更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇理学
  • 1篇机械工程

主题

  • 3篇多层膜
  • 3篇中子
  • 1篇优化设计
  • 1篇周期多层膜
  • 1篇极紫外
  • 1篇溅射
  • 1篇反射镜
  • 1篇反射率
  • 1篇高反射率
  • 1篇波段
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇粗糙度

机构

  • 4篇同济大学

作者

  • 4篇吴永荣
  • 3篇王占山
  • 3篇陈玲燕
  • 2篇张众
  • 1篇王风丽
  • 1篇朱京涛
  • 1篇王洪昌
  • 1篇李存霞
  • 1篇程鑫彬

传媒

  • 1篇光子学报
  • 1篇原子能科学技...
  • 1篇第三届散裂中...

年份

  • 1篇2010
  • 2篇2007
  • 1篇2006
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
中子多层膜光学元件研究
<正>随着中子检测技术的日益发展和广泛应用,人们对入射到被测样品表面的中子强度的要求越来越高。采用中子多层膜光学元件是提高中子利用率的有效手段之一。利用中子多层膜单色器代替晶体单色器可以大大提高出射中子强度和单色性。使用...
王占山张众吴永荣陈玲燕
文献传递
中子超反射镜设计方法研究
中子检测技术的飞速发展和广泛应用,使得人们对入射到样品表面中子强度的要求越来越高,中子多层膜光学元件是提高中子使用率的有效手段之一。用非周期的多层膜代替单层Ni膜作为中子导管的内镀层可以将反射临界角增加到Ni的全反射临界...
吴永荣
关键词:中子
文献传递
中子超镜的优化设计被引量:6
2010年
中子超镜的主要光学性能指标是反射临界角,反射临界角通常由镍块体材料的全反射临界角的倍数m来表征。本文采用增加帽层、优化关键参数和引入新设计参数的方法,弥补了中子超镜算法在m≤1区域内的局限性,实现了包含较少膜对数K的大m值中子超镜结构设计。利用Nevot-Croce模型模拟了多层膜的非理想界面,讨论了多层膜表界面粗糙度对超镜反射特性的影响。结果表明,对m=3的Ni/Ti中子超镜仅需200个膜对,在制作工艺上,要求制备m=3的Ni/Ti超镜的膜层界面粗糙度应小于1.5 nm,以保证其反射率不低于80%。
张众王占山吴永荣陈玲燕
关键词:多层膜粗糙度
50~110nm波段高反射率多层膜的设计与制备被引量:8
2007年
阐述了50~110nm强吸收波段亚四分之一波长多层膜的设计方法.这种膜系是由强吸收材料叠加而成,每层膜光学厚度小于四分之一个波长.与常规周期多层膜相比,这种膜系更适用于提高强吸收波段的反射率.利用该方法设计了50nm处高反射多层膜,并以此为初始条件通过Levenberg-Marquart优化方法完成了50~110nm强吸收波段宽带高反射率Si/W/Co多层膜的设计,其平均反射率达到45%.采用直流磁控溅射方法制备了Si/W/Co多层膜,用X射线衍射仪(XRD)对膜层结构进行了测试,测试结果表明制作出的多层膜结构与设计结构基本相符.
李存霞王占山王风丽朱京涛吴永荣王洪昌程鑫彬陈玲燕
关键词:多层膜极紫外高反射率磁控溅射
共1页<1>
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